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龙图腾网获悉中国科学院高能物理研究所申请的专利多层膜劳厄透镜及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114496337B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210063039.2，技术领域涉及：G21K1/06；该发明授权多层膜劳厄透镜及其设计方法是由冀斌;常广才;岳帅鹏;杨一鸣;周亮设计研发完成，并于2022-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本多层膜劳厄透镜及其设计方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种多层膜劳厄透镜及其设计方法，透镜包括基底层和设置在所述基底层上的衍射结构，所述衍射结构包括叠层设置的多个周期，每个所述周期均包括叠置的吸收层和间隔层，所述周期从靠近所述基底层向远离所述基底层的方向，厚度逐渐减小；每个所述吸收层和所述间隔层的截面深度为最佳截面深度*1‑修形参数Q，其中，Q为0.4‑1之间的任意值。根据本申请实施例提供的技术方案，通过对多层膜劳厄透镜进行修形，通过修形来实现对在制备透镜过程中产生的结构误差的补偿，不需要其他辅助光学元件的情况下，缩小其与理想的多层膜劳厄透镜出射面电场之间的差异，从而改善实际制备所得的多层膜劳厄透镜的聚焦性能。

本发明授权多层膜劳厄透镜及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种多层膜劳厄透镜，其特征在于，包括基底层和设置在所述基底层上的衍射结构，所述衍射结构包括叠层设置的多个周期，每个所述周期均包括叠置的吸收层和间隔层， 所述周期从靠近所述基底层向远离所述基底层的方向，厚度逐渐减小； 每个所述吸收层和所述间隔层的截面深度为最佳截面深度*1-修形参数Q， 其中，确定衍射结构包括如下步骤： 根据所述透镜的应用要求确定所述透镜的膜层总厚度、最外层膜层的周期厚度Drout和总膜层数；确定各膜层在入射面处的周期厚度； 根据入射光的波长λ，所述透镜-1级次衍射光的焦距f和膜层数量计算-1级衍射效率随截面深度Z变化的曲线η-1Z，获取最佳截面深度Zopt； 所述最佳截面深度对应有最佳电场分布，在基底层上形成实际衍射结构，形成的所述实际衍射结构的电场分布为实际电场分布，对所述实际衍射结构中的所述吸收层和所述间隔层进行修形，并计算修形后出射面的实际电场分布，直至实际电场分布与最佳电场分布之间的误差在设定范围之内，确定修形参数Q。

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