应用材料公司林庄嘉获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利光学壁和等离子体面对传感器的工艺传感器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114641844B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080077380.2，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权光学壁和等离子体面对传感器的工艺传感器是由林庄嘉;乌彭铎·乌梅塔拉设计研发完成，并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学壁和等离子体面对传感器的工艺传感器在说明书摘要公布了：本文公开的实施方式包括用于在等离子体处理工具中使用的光学传感器系统。在一实施方式中，光学传感器系统包括：光学透明主体，具有第一表面和面向离开第一表面的方向的第二表面。在一实施方式中，光学透明主体进一步包括从第二表面凹陷的第三表面。在一实施方式中，光学传感器系统进一步包括在第三表面上方的靶；和第一反射器，用于将第一表面光学耦合至靶。
本发明授权光学壁和等离子体面对传感器的工艺传感器在权利要求书中公布了：1.一种光学传感器系统，包括： 光学透明主体，具有第一表面和面向离开所述第一表面的方向的第二表面，其中所述光学透明主体进一步包括从所述第二表面凹陷的第三表面； 靶，在所述第三表面上方； 第一反射器，将所述第一表面光学耦合至所述靶；和 第二反射器，将所述第一表面光学耦合至所述靶，其中： 所述第一反射器和所述第二反射器在所述第二表面与所述第三表面之间；或 所述第一反射器在所述第二表面与所述第三表面之间，并且所述第二反射器在所述第一表面与所述第三表面之间。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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