三星SDI株式会社元东勋获国家专利权
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龙图腾网获悉三星SDI株式会社申请的专利硬掩模组合物及形成图案的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114660897B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111572845.4，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权硬掩模组合物及形成图案的方法是由元东勋;兪龙植;李贤洙;崔世一;崔熙瑄设计研发完成，并于2021-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本硬掩模组合物及形成图案的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种包含聚合物及溶剂的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述聚合物包含衍生自由化学式1表示的化合物的部分。在化学式1中，X1到X3、A1到A3及L1到L3的定义如说明书中所阐述。[化学式1]。
本发明授权硬掩模组合物及形成图案的方法在权利要求书中公布了：1.一种硬掩模组合物，包含： 聚合物及溶剂，所述聚合物包含衍生自由化学式2表示的化合物的部分： [化学式2] 其中，在化学式2中， X1到X3各自独立地是N或CRa，其中Ra是氢、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C2至C30杂环基或其组合， B1到B6各自独立地是C6至C30芳环，且 L1到L3各自独立地是单键、经取代或未经取代的C6至C30亚芳基或其组合， R1到R3各自独立地是经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C2至C30烯基、经取代或未经取代的C2至C30炔基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C2至C30杂环基或其组合， m1到m6各自独立地是0或1，且 n1到n3各自独立地是0到4的整数。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星SDI株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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