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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于分配气体的组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695060B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111653081.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和用于分配气体的组件是由孙亨圭设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于处理基板的装置和用于分配气体的组件在说明书摘要公布了：本发明涉及用于处理基板的装置和用于分配气体的组件。提供了一种气体分配组件，该气体分配组件设置在用于利用等离子体处理基板的装置中以分配气体。在示例性实施方案中，气体分配组件包括气体分配板，该气体分配板形成有用于扩散从气体供应单元供应的气体的多个气体引入孔；喷头板，该喷头板设置在气体分配板的上部或下部处以与气体分配板接触、并且具有多个气体供应孔，该多个气体供应孔形成在与气体引入孔连通的位置处以贯穿上表面的和下表面；和紧固构件，该紧固构件设置在与气体分配板和喷头板接触的侧表面处、并且包括第一耦接部和第二耦接部，该第一耦接部耦接到气体分配板，该第二耦接部支承喷头板的下表面以接触气体分配板和喷头板。

本发明授权用于处理基板的装置和用于分配气体的组件在权利要求书中公布了：1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括： 腔室，所述腔室被配置为在其中具有处理空间； 支承单元，所述支承单元被配置为在所述处理空间中支承所述基板； 气体供应单元，所述气体供应单元被配置为将气体供应到所述处理空间； 等离子体源，所述等离子体源被配置为从所述气体生成等离子体；以及 气体分配组件，所述气体分配组件设置在所述支承单元的上方， 其中，所述气体分配组件包括： 气体分配板，所述气体分配板形成有多个气体引入孔，所述多个气体引入孔用于扩散从所述气体供应单元供应的所述气体； 喷头板，所述喷头板设置在所述气体分配板的上部或下部处以与所述气体分配板接触、并且具有多个气体供应孔，所述多个气体供应孔形成在与所述气体引入孔连通的位置处以贯穿上表面和下表面；和 紧固构件，所述紧固构件设置在与所述气体分配板和所述喷头板接触的侧表面处、并且包括第一耦接部和第二耦接部，所述第一耦接部耦接到所述气体分配板，所述第二耦接部支承所述喷头板的下表面以接触所述气体分配板和所述喷头板， 其中，所述气体分配板和所述喷头板具有不同的热膨胀系数， 其中，所述紧固构件还包括连接部，所述第一耦接部和所述第二耦接部通过所述连接部彼此连接；所述第一耦接部的下表面与所述气体分配板接触，所述第二耦接部分的上表面与所述喷头板接触，以及所述气体分配板和所述喷头板由所述第一耦接部和所述第二耦接部夹持和耦接，所述喷头板允许所述第二耦接部的所述上表面在与所述第二耦接部的所述上表面接触的表面上为可滑动的，所述紧固构件和所述喷头板在横向方向上以预定距离彼此间隔开，使得所述喷头板可以增加横向方向上的变形的容许限度。

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