东京毅力科创株式会社户田聪获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利蚀刻方法和蚀刻装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746985B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080084270.9，技术领域涉及：H01L21/302；该发明授权蚀刻方法和蚀刻装置是由户田聪;新藤尚树;立花光博;铃木春菜;杨元设计研发完成，并于2020-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻方法和蚀刻装置在说明书摘要公布了：蚀刻方法具有如下工序：将至少具有钼膜或钨膜以及含硅物且钼膜或钨膜露出的状态的基板设置于腔室内；向腔室内供给氧化气体和作为蚀刻气体的六氟化物气体来相对于含硅物选择性地蚀刻钼膜或钨膜。
本发明授权蚀刻方法和蚀刻装置在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻方法，具有以下工序： 将至少具有钼膜或钨膜以及含硅物且所述钼膜或所述钨膜露出的状态的基板设置于腔室内；以及 向所述腔室内供给氧化气体和作为蚀刻气体的六氟化物气体来相对于所述含硅物选择性地蚀刻所述钼膜或所述钨膜， 其中，在进行所述蚀刻的工序中，在使氧化占优势的条件下对钼膜或钨膜进行蚀刻，来抑制蚀刻面的空孔的扩张。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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