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龙图腾网获悉海光信息技术股份有限公司申请的专利过孔叠层结构的处理方法、库建立方法、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115081375B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210662002.1，技术领域涉及：G06F30/39；该发明授权过孔叠层结构的处理方法、库建立方法、设备及存储介质是由李风雷设计研发完成，并于2022-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本过孔叠层结构的处理方法、库建立方法、设备及存储介质在说明书摘要公布了：一种过孔叠层结构的处理方法、库建立方法、设备及存储介质。该生成过孔叠层结构的方法包括基于第一金属层的对齐基准，确定连接第一金属层和第二金属层的过孔叠层结构的第一部分，第二金属层为第一金属层的下层金属层，对齐基准为过孔叠层结构的第二部分，第二部分连接第二金属层和第二金属层的下层金属层，基于第一金属层的金属层模式，确定是否调整第一部分的位置；其中，在金属层模式为双间距模式时，调整第一部分的位置。该方法可克服现有EDA工具提供的插入过孔叠层结构的方法限制条件多且性能差的缺陷，并实现定义高质量的过孔叠层结构、使过孔叠层结构的插入独立于PDK和标准单元库并便于用户使用。

本发明授权过孔叠层结构的处理方法、库建立方法、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种生成多层金属的过孔叠层结构的处理方法，包括： 基于第一金属层的对齐基准，确定连接所述第一金属层和第二金属层的过孔叠层结构的第一部分，所述第二金属层为所述第一金属层的下层金属层，所述对齐基准为所述过孔叠层结构的第二部分，所述第二部分连接所述第二金属层和所述第二金属层的下层金属层，其中，所述第一部分包括所述第一金属层和所述第二金属层之间的至少一个过孔以及所述第一金属层中的多条金属线段；所述基于第一金属层的对齐基准，确定连接所述第一金属层和第二金属层的过孔叠层结构的第一部分，包括：基于所述对齐基准的横坐标或纵坐标，从所述第一金属层中预设的多个轨道中确定与所述横坐标或纵坐标最接近的至少一个轨道； 基于所述第一金属层的金属层模式，确定是否调整所述第一部分的位置；其中，在所述金属层模式为双间距模式时，调整所述第一部分的位置，包括：移动所述多条金属线段中的至少一条金属线段，以使所述多条金属线段中每两条金属线段之间间隔两个轨道。

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