ASML荷兰有限公司O·V·兹维尔获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利包括目标布置的衬底和相关联的至少一个图案形成装置、光刻方法和量测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115552221B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180033275.3，技术领域涉及：G01N21/47；该发明授权包括目标布置的衬底和相关联的至少一个图案形成装置、光刻方法和量测方法是由O·V·兹维尔;M·范德斯卡;H·D·博斯;H·范德拉恩;S·M·马苏杜尔·朗曼·阿尔阿里夫;H·W·M·范布尔;A·E·A·科伦;V·E·卡拉多;K·巴塔查里亚;廉晋;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;林慧全设计研发完成，并于2021-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本包括目标布置的衬底和相关联的至少一个图案形成装置、光刻方法和量测方法在说明书摘要公布了：披露了一种衬底和相关联的图案形成装置。所述衬底包括适于光刻过程的量测的至少一个目标布置，所述目标布置包括至少一对相似的目标区，所述至少一对相似的目标区被布置成使得所述目标布置是中心对称的、或至少用于在单个方向上的测量的目标区一起是中心对称的。也披露了一种用于测量所述衬底的量测方法。也披露了一种量测方法，包括测量这种目标布置和根据散射辐射确定所关注的参数的值，同时校正所使用的量测设备的变形。
本发明授权包括目标布置的衬底和相关联的至少一个图案形成装置、光刻方法和量测方法在权利要求书中公布了：1.一种衬底，包括适于光刻过程的量测的至少一个目标布置，所述目标布置至少包括第一组目标区和第二组目标区，所述第一组目标区被配置用于沿第一方向的测量，且所述第二组目标区被配置用于沿不同于所述第一方向的第二方向的测量， 其中，所述第一组目标区至少包括第一目标类型和第二目标类型，所述第一目标类型和所述第二目标类型各自被配置用于沿所述第一方向的测量，并且所述第二目标类型具有与所述第一目标类型的间距值或方向不同的间距值或方向，以及 其中，对于所述第一组目标区和所述第二组目标区中的每组，所述目标布置还包括对应的相似组目标区，所述对应的相似组目标区被定位成相对于相应第一组目标区和第二组目标区绕位于由所述目标布置所界定的区内的点为中心对称的。
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