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龙图腾网获悉福建华佳彩有限公司申请的专利一种低成本高开口率的TFT阵列基板与制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116207108B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310179025.1，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权一种低成本高开口率的TFT阵列基板与制作方法是由毛清平设计研发完成，并于2023-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低成本高开口率的TFT阵列基板与制作方法在说明书摘要公布了：本发明涉及显示器技术领域，提供一种低成本高开口率的TFT阵列基板与制作方法，包括：玻璃衬底，分为GIP电路区与面内电路区；第一栅绝缘层开设有第一GIP挖孔、第二GIP挖孔与第一面内挖孔；第二金属层，形成第一GIP导电层与第二GIP导电层、面内导电层与TP走线；第二栅绝缘层开设有第三GIP挖孔、第四GIP挖孔与第二面内挖孔；公共电极，穿过第二面内挖孔与TP走线连接；有源层，固定设置在第二栅绝缘层；面内漏极与TP走线交错叠加。本发明的优点在于：公共电极与TP走线之间的挖孔与第一GIP挖孔、第二GIP挖孔在同一道工序完成，降低生产成本，增大面内栅极与面内漏极之间的距离，减小栅极与漏极之间的寄生电容，将漏极设置在TP走线的上方，提高开口率。

本发明授权一种低成本高开口率的TFT阵列基板与制作方法在权利要求书中公布了：1.一种低成本高开口率的TFT阵列基板，其特征在于，包括： 玻璃衬底，分为GIP电路区与面内电路区； 第一金属层，固定设置在所述玻璃衬底的上表面，在所述GIP电路区形成间隔分布的第一GIP栅极与第二GIP栅极，在所述面内电路区形成面内栅极； 第一栅绝缘层，固定设置在所述第一GIP栅极、第二GIP栅极、面内栅极与玻璃衬底的上表面，所述第一栅绝缘层开设有第一GIP挖孔、第二GIP挖孔与第一面内挖孔； 第二金属层，固定设置在所述第一栅绝缘层的上表面，在所述GIP电路区形成间隔分布的第一GIP导电层与第二GIP导电层，在所述面内电路区形成间隔分布的面内导电层与TP走线，所述第一GIP导电层位于所述第一GIP栅极的正上方，还穿过所述第一GIP挖孔与所述第一GIP栅极连接，所述第二GIP导电层位于所述第二GIP栅极的正上方，还穿过所述第二GIP挖孔与所述第二GIP栅极连接，所述面内导电层位于所述面内栅极的正上方，还穿过所述第一面内挖孔与所述面内栅极连接； 第二栅绝缘层，固定设置在所述第一GIP导电层、第二GIP导电层、TP走线、面内导电层与第一栅绝缘层的上表面，所述第二栅绝缘层开设有第三GIP挖孔、第四GIP挖孔与第二面内挖孔； 公共电极，固定设置在所述第二栅绝缘层的上表面，还穿过所述第二面内挖孔与所述TP走线连接； 有源层，固定设置在所述第二栅绝缘层的上表面，在所述GIP电路区形成间隔分布的第一GIP有源层与第二GIP有源层，在所述面内电路区形成面内有源层，所述第一GIP有源层位于所述第一GIP导电层的正上方，所述第二GIP有源层位于所述第二GIP导电层的正上方，所述面内有源层位于所述面内导电层的正上方； 第三金属层，固定设置在所述第二栅绝缘层的上表面，在所述GIP电路区形成第一GIP源极、第一GIP漏极、第二GIP源极、第二GIP漏极与GIP电容，在所述面内电路区形成面内源极与面内漏极，所述第一GIP源极与所述第一GIP有源层的左端连接，所述第一GIP漏极与所述第一GIP有源层的右端连接，所述第一GIP漏极还穿过所述第三GIP挖孔与所述第二GIP导电层连接，所述第二GIP源极与所述第二GIP有源层的左端连接，所述第二GIP漏极与所述第二GIP有源层的右端连接，所述第二GIP漏极还穿过所述第四GIP挖孔与所述面内导电层连接，所述GIP电容的一个极板与所述第一GIP漏极连接，所述GIP电容的另一个极板与所述第二GIP漏极连接，所述面内源极与所述面内有源层的左端连接，所述面内漏极与所述面内有源层的右端连接，所述面内漏极与所述TP走线错位叠加； 钝化层，固定设置在所述第一GIP源极、第一GIP漏极、第二GIP源极、第二GIP漏极、GIP电容、面内源极、面内漏极、第一GIP有源层、第二GIP有源层、面内有源层与第二栅绝缘层的上表面，所述钝化层开设有第三面内挖孔； 画素电极，固定设置在所述钝化层的上表面，还穿过所述第三面内挖孔与所述面内漏极连接。

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