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龙图腾网获悉中国电子系统工程第二建设有限公司申请的专利一种含双氧水含氟废水的深度处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116462359B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310502200.6，技术领域涉及：C02F9/00；该发明授权一种含双氧水含氟废水的深度处理系统是由熊江磊;戎宇舟;吴建华;张浩;高康;陈炜彧;徐冬磊设计研发完成，并于2023-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种含双氧水含氟废水的深度处理系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种含双氧水含氟废水的深度处理系统，包括pH调节池、双氧水去除池、超滤系统、反渗透系统、除氟装置以及化混系统；含双氧水含氟废水依次经过pH调节池、双氧水去除池、超滤系统和反渗透系统，反渗透系统产水进入除氟装置，浓水进入化混系统，化混系统产水回流至pH调节池，除氟装置产水排至纯水系统前端。本发明采用超滤+反渗透+树脂的工艺深度处理含氟废水，并将除氟装置的产水回用至超纯水系统的前端，含氟废水经过处理后产水可以稳定＜1mgL。

本发明授权一种含双氧水含氟废水的深度处理系统在权利要求书中公布了：1.一种含双氧水含氟废水的深度处理系统，其特征在于：包括pH调节池、双氧水去除池、超滤系统、反渗透系统、除氟装置以及化混系统；含双氧水含氟废水依次经过pH调节池、双氧水去除池、超滤系统和反渗透系统，反渗透系统产水进入除氟装置，浓水进入化混系统，化混系统产水回流至pH调节池，除氟装置产水排至纯水系统前端； 其中，所述除氟装置包括由绝缘材料制成的壳体，壳体内通过竖向设置的绝缘细筛网分隔成进水腔和出水腔，壳体上还设有进水口和出水口，进水口和出水口与进水腔和出水腔一一对应设置；在进水腔对应的壳体侧壁上设有电极I，在出水腔对应的壳体侧壁上设有电极II，电极I和电极II外都包覆有绝缘层，包覆电极I的绝缘层侧壁上负载有除氟材料；运行过程中，电极I和电极II分别与外部电源的正极和负极连接，电极I和电极II之间的电压差为10~200V；在电压的作用下，废水从进水口进入进水腔，水中的氟离子向阳极流动，与除氟材料反应，反应后的废水通过绝缘细筛网上的通孔流入出水腔，从出水口排出； 所述除氟材料，采用如下方法制备而成，具体包括如下步骤：1在惰性氛围下，将硅烷偶联剂和金属氯化物在有机溶剂中生成氯化物硅烷偶联剂；2将氯化物硅烷偶联剂在碱性溶液中反应，得到氢氧化物硅烷偶联剂，碱性溶液的pH为11~14；3将氢氧化物硅烷偶联剂与介孔氧化硅材料置于惰性溶剂中反应，反应后得到介孔氧化硅材料表面接枝有氢氧化物的除氟材料；反应温度160~250℃，氩气气氛下反应10~20h，介孔氧化硅材料与氢氧化物硅烷偶联剂的质量比为1:10~25。

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