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龙图腾网获悉中山大学申请的专利一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116764914B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310701723.3，技术领域涉及：B05D5/08；该发明授权一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层及其制备方法是由田雪林;陈立伟;窦盈莹设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于超疏水涂层技术领域，具体涉及一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层及其制备方法。为了研发具有高耐磨性和高透明性的超疏水涂层材料，本发明通过有机‑无机纳米杂化材料来制备超疏水涂层所需要的表面粗糙结构，并通过V形纳米孔模板来制备单一纳米尺度且呈锥形结构的涂层表面，再通过具有低表面能、低摩擦系数的类液体分子对表面结构进行化学修饰，经涂料的配制、模板预处理、涂层结构制备、涂层表面化学修饰等步骤后制备得到一种超疏水纳米涂层，本发明通过有机‑无机杂化、纳米锥形几何结构和类液体表面化学三个方面的协同作用，最终使涂层的耐磨性能得到有效提高，并使涂层兼具高透明度和超疏水性。

本发明授权一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高耐磨高透明超疏水纳米涂层的制备方法，其特征在于，由以下步骤形成： S1、涂料的配制：将液体有机-无机杂化物分子和光引发剂混合制成可光固化的液体涂料；所述液体有机-无机杂化物分子为笼状或梯形的聚倍半硅氧烷； S2、模板预处理：用脱模剂对纳米锥形孔模板进行化学修饰，得到容易脱模的模板；所述脱模剂为低表面能化学修饰分子，选自全氟聚醚硅烷；所述纳米锥形孔模板中，孔为阵列排布，底部孔径为10−80nm，顶部孔径为50−200nm，周期为50−200nm；所述纳米锥形孔模板包括锥形孔阳极氧化铝模板及通过光刻和复型得到的锥形孔树脂模板； 模板预处理修饰的具体操作为：将模板放入等离子体机中处理，再将等离子处理后的模板放入浓度为0.1％-1％的全氟聚醚硅烷溶液中浸涂1min，取出后在60-150℃下加热反应0.5-1h； S3、涂层结构制备：将步骤S1配制的液体涂料滴加到步骤S2预处理的模板表面，覆盖上目标基材，施压使液体涂料在模板和基材之间均匀铺展，并进入到模板的纳米孔中，然后通过紫外光照射使其固化，再将附着于基材表面的固化涂层从模板上剥离，经二次固化后制得具有均一纳米锥形阵列结构的有机-无机杂化涂层； S4、涂层表面修饰：先对步骤S3所得的涂层进行等离子体处理，然后用低表面能、低摩擦系数的类液体分子对其表面结构进行化学修饰，得到高耐磨高透明的超疏水涂层；所述低表面能、低摩擦系数的类液体分子选自线性的全氟聚醚和聚二甲基硅氧烷类液体分子，其分子量为1000−10000gmol； 步骤S2的有机-无机杂化涂层中，纳米锥形阵列结构的尺寸和周期均小于200nm； 根据步骤S1-S4制备的高耐磨高透明超疏水纳米涂层的雾度低于1.0％。

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