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贵研铂业股份有限公司幸七四获国家专利权

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龙图腾网获悉贵研铂业股份有限公司申请的专利一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117123791B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310894323.9,技术领域涉及:B22F9/24;该发明授权一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法是由幸七四;张晓杰;姚志强;白鑫;朱俊宇;李文琳设计研发完成,并于2023-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法,在氯金酸水溶液中,通过氧化还原法制备亚微米级不规则形貌金粉。制备过程中使用氨基酸作为金离子络合剂及反应液pH缓冲剂,使用还原性弱的含有咪唑官能团的小分子有机物作为还原剂,在去离子水洗涤金粉后使用乙醇置换粉体中水等手段,制备得到形貌不规则、不结块的亚微米级金粉。本发明制备的金粉粒径范围200nm~900nm,在醇类和酯类溶剂中分散性好,烧结后膜层致密,能匹配进口及国产多种生瓷料,烧结后基板平整,翘曲度小于0.1mm。本发明的制备方法收率高、制备过程便捷。

本发明授权一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种用于匹配低温共烧陶瓷的金粉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 1使用王水将99.99%金片溶解,除去溶液中硝酸及多余的盐酸,使用去离子水配制成1molL的HAuCl4溶液; 2将分散剂溶于去离子水中,分散剂与HAuCl4的质量比为1~5:100,去离子水与HAuCl4溶液的体积比的9:1; 3将氨基酸溶解于去离子水中,配制成浓度为1molL的氨基酸水溶液,氨基酸与HAuCl4的摩尔比为3:2;所述氨基酸作为金离子络合剂及反应液的pH调节剂,用于降低金离子反应速率、避免其它形貌产生以及调节pH促使反应稳定进行; 4将含有咪唑官能团的还原剂溶解于去离子水中,配制成浓度为1molL的还原剂溶液,还原剂与HAuCl4的摩尔比2~3:2,适当升高溶液温度; 5在搅拌条件下,将步骤1制备的HAuCl4溶液倒入步骤2制成的分散剂溶液中,搅拌一段时间后,加入步骤3制备的氨基酸水溶液,使用浓度0.1~1molL的HCl或NaOH溶液调节pH=1.3~1.4,适当升高溶液温度后加入步骤4制备的还原剂水溶液,持续搅拌至反应完全; 6将步骤5反应液静止沉淀,倒出上清液,用去离子水反复洗涤后再用乙醇洗涤置换粉体中水,进烘箱干燥,制备得到形貌不规则、不结块的粒径范围200nm~900nm,翘曲度小于0.1mm金粉。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人贵研铂业股份有限公司,其通讯地址为:650000 云南省昆明市科技路988号(昆明贵金属研究所);或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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