盛美半导体设备(上海)股份有限公司王晖获国家专利权
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龙图腾网获悉盛美半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利基板处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117299666B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210724206.3，技术领域涉及：B08B3/08；该发明授权基板处理设备是由王晖;刘阳;何西登;胡海波;张晓燕;陈福平设计研发完成，并于2022-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理设备在说明书摘要公布了：本发明揭示了一种基板处理设备，包括工艺腔室、基板托盘、兆声波发射装置和清洗装置，基板托盘设置于工艺腔室内，基板托盘用于承载基板；兆声波发射装置用于对兆声波发射装置和基板之间的化学液传递兆声波能量；清洗装置用于清洗兆声波发射装置，清洗装置包括静电导流组件，静电导流组件设置于清洗装置，静电导流组件用于与兆声波发射装置电性连接，以将兆声波发射装置上的电荷导走。本发明具有避免基板表面因兆声波发射装置上积累的电荷放电而产生损伤缺陷的优点。
本发明授权基板处理设备在权利要求书中公布了：1.一种基板处理设备，其特征在于，包括： 工艺腔室； 基板托盘，设置于所述工艺腔室内，所述基板托盘用于承载基板； 兆声波发射装置，用于对所述兆声波发射装置和所述基板之间的化学液传递兆声波能量； 清洗装置，用于清洗所述兆声波发射装置，所述清洗装置包括静电导流组件，所述静电导流组件设置于所述清洗装置，所述静电导流组件用于与所述兆声波发射装置电性连接，以将所述兆声波发射装置上的电荷导走； 当所述兆声波发射装置在所述清洗装置中清洗时，所述静电导流组件通过所述清洗装置中的清洗液与所述兆声波发射装置电性连接，以使所述兆声波发射装置上的电荷依次通过所述清洗装置中的清洗液和所述静电导流组件导走。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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