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龙图腾网获悉北京自动化控制设备研究所申请的专利半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117305766B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311235317.9，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置和方法是由徐海刚;王宝军;朱毅;李泽章;秦玉霞;钟润伍;邱丽玲;孙凯丽;杜善宇;张超设计研发完成，并于2023-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置和方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置和方法，所述装置包括公转平台1、升降杆2、自转平台3、半球谐振子夹具4及掩膜遮挡版7。所述自转平台3安装在公转平台1上，由公转平台1带动自转平台3移动和定位；所述升降杆2安装在自转平台3上，自转平台3带动升降杆3作自转运动；所述升降杆2上端连接半球谐振子夹具4，升降杆2带动半球谐振子夹具4升降运动；所述半球谐振子夹具4用于加持固定于半球谐振子下部支撑杆；所述掩膜遮挡板7位于半球谐振子夹具4上方，所述掩膜遮挡板7上有三个工位，第一工位7‑1用于半球谐振子内球面上膜层镀制，第二工位7‑2用于半球谐振子唇沿位置膜层镀制，第三工位7‑3用于半球谐振子支撑杆上部分膜层的二次镀制。本发明极大提高了镀膜效率，降低了金属膜层对半球谐振子振动性能的影响。

本发明授权半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置，其特征在于，所述装置包括公转平台1、升降杆2、自转平台3、半球谐振子夹具4及掩膜遮挡板7， 所述自转平台3安装在公转平台1上，由公转平台1带动自转平台3移动和定位； 所述升降杆2安装在自转平台3上，自转平台3带动升降杆2作自转运动； 所述升降杆2上端连接半球谐振子夹具4，升降杆2带动半球谐振子夹具4升降运动； 所述半球谐振子夹具4用于加持固定于半球谐振子下部支撑杆； 所述掩膜遮挡板7位于半球谐振子夹具4上方，所述掩膜遮挡板7上有三个工位；所述掩膜遮挡板7上的第一工位7-1用于半球谐振子内球面上膜层镀制，为镂空圆形，圆形直径为半球谐振子内球面直径；所述掩膜遮挡板7上的第二工位7-2用于半球谐振子唇沿位置膜层镀制，包括镂空圆环和中空凸起结构，所述圆环内径为半球谐振子内球面直径，圆环外径为半球谐振子外球面直径，圆环中心盘与圆环外掩膜遮挡板7通过两个连接桥梁进行连接固定，所述中空凸起结构的内径稍大于半球谐振子支撑柱内径，内部高度稍大于半球谐振子支撑柱高出唇沿的高度，半球谐振子支撑柱能够升入中空凸起结构，进而保证半期谐振子唇沿到达掩膜遮挡板下表面；所述掩膜遮挡板7上的第三工位7-3用于半球谐振子支撑杆上部分膜层的二次镀制，为镂空圆形，圆形直径稍大于半球谐振子支撑杆直径，包括以下步骤： 1装配半球谐振子到自转平台3上的半球谐振子夹具4上，将所述半球谐振子变厚度金属膜层镀制装置集成在预定真空度的真空室中； 2公转平台1控制半球谐振子位置至第一工位7-1下方，升降杆2控制半球谐振子上升至半球谐振子唇沿与掩膜遮挡板下表面距离0.2mm~0.5mm； 3自转平台3控制半球谐振子作自转运动，按设定好的膜层镀制工艺参数对半球谐振子内球面开始镀膜； 4第一工位7-1镀制完成后，公转平台1控制半球谐振子位置至第二工位7-2下方，升降杆2控制半球谐振子上升至半球谐振子唇沿与掩膜遮挡板7上表面位于同一水平面； 5自转平台3控制半球谐振子作自转运动，按设定好的膜层镀制工艺参数对半球谐振子唇沿和支撑柱位置开始镀膜； 6第二工位7-2镀制完成后，公转平台1控制半球谐振子位置至第三工位7-3下方，升降杆2控制半球谐振子上升至半球谐振子唇沿与掩膜遮挡板7下表面距离0.2mm~0.5mm； 7自转平台3控制半球谐振子作自转运动，按设定好的膜层镀制工艺参数开始对半球谐振子支撑柱镀膜，完成膜层镀制。

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