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龙图腾网获悉松山湖材料实验室申请的专利一种耐腐蚀性涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117888105B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211230321.1，技术领域涉及：C23C28/00；该发明授权一种耐腐蚀性涂层及其制备方法是由田修波;郑礼清设计研发完成，并于2022-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐腐蚀性涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种耐腐蚀性涂层及其制备方法，涉及耐腐蚀涂层技术领域。其中所述耐腐蚀性涂层包括：由基底表面开始，由内至外依次排列的至少一组的致密复合单元层；其中，在一组的致密复合单元层中，包括由内至外依次排列的金属打底层、过渡层和玻璃态致密氧化硅层。本发明通过在具有易腐蚀性和或粗糙外表面的基底表面，由内至外依次涂覆的至少一组的致密复合单元层；其中，金属打底层用于增加与金属基材的结合力；在金属打底层表面形成的过渡层，能提高涂层与基底的结合强度有利于提升涂层耐腐蚀性能；在所述过渡层表面形成的玻璃态致密氧化硅层，能够实现对基底的强包覆，阻挡腐蚀性原子及离子向基底的渗透，提高涂层的整体耐腐蚀性能。

本发明授权一种耐腐蚀性涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐腐蚀性涂层，应用于对具有易腐蚀性和或粗糙外表面的基底表面的涂覆，其特征在于，包括： 由所述基底表面开始，由内至外依次排列的至少一组的致密复合单元层； 其中，在一组的所述致密复合单元层中，包括由内至外依次排列的金属打底层、过渡层和玻璃态致密氧化硅层； 所述金属打底层包括单质金属或者为合金靶材中的一种或两种组合；所述单质金属包括Cr、Ti、Al、Nb和Ta中的一种； 所述合金靶材包括TiAl、CrAl和TiCr中的一种； 所述过渡层为覆盖于所述金属打底层表面且与所述金属打底层相融合而形成的过渡层； 所述过渡层包括金属融合层和碳化物层；并且，所述过渡层为由所述金属融合层向所述碳化物层过渡的过渡层； 所述金属融合层为与所述金属打底层表面的金属融合后的金属氮化物和金属氮氧化物中的一种或两种组合； 所述玻璃态致密氧化硅层为含有SiOxCy的玻璃态致密氧化硅层； 所述玻璃态致密氧化硅层是由Si-DLC涂层在通入氧气后形成的含有SiOxCy的玻璃态致密氧化硅层。

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