买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118769124B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411112399.2，技术领域涉及：B24B37/22；该发明授权一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺是由李加海;杨惠明;李元祥设计研发完成，并于2024-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺，属于CMP抛光垫技术领域，包括基底层、加强层和抛光层，基底层的上表面设置有加强层，加强层的上表面设置有抛光层。本发明解决了现有的CMP抛光垫在使用时，其支撑强度低下，易磨损，导致CMP抛光垫使用寿命短的问题，本发明通过以聚氨酯纤维及聚酰胺纤维为原料来制备增强底层和增强面层，且将支撑层加工在增强底层内，通过充气机向支撑件内充气，经支撑条上设置的气孔排出进而对增强底层和增强面层进行更进一步地支撑，通过设置的加强层可提升CMP抛光垫的支撑强度，防止CMP抛光垫磨损，可提升CMP抛光垫的耐磨性能，延长CMP抛光垫的使用寿命。

本发明授权一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种晶圆再生抛光用CMP抛光垫，包括基底层1、加强层2和抛光层3，其特征在于，所述基底层1的上表面设置有加强层2，所述加强层2的上表面设置有抛光层3，其中，基底层1、加强层2和抛光层3的厚度比为2:3:1； 所述加强层2包括增强底层21和增强面层22，所述增强底层21设置在基底层1上，且增强底层21上设置有增强面层22，所述增强面层22和抛光层3连接； 所述加强层2还包括支撑层23，所述支撑层23设置在增强底层21和增强面层22的内侧，且支撑层23的上端连接增强面层22的内侧，支撑层23的下端连接增强底层21的内侧； 所述支撑层23包括支撑件231和支撑条232，所述支撑件231上设置有支撑条232，所述支撑条232纵横交错分布在支撑件231上，所述支撑件231和支撑条232相连通，且支撑条232上设置有气孔2321，所述气孔2321用于充气支撑增强底层21和增强面层22，所述支撑件231上设置有接口2311，所述接口2311贯穿增强底层21，且接口2311连接充气机。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安徽禾臣新材料有限公司，其通讯地址为：238299 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。