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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利一种硅晶片高效率抛光无蜡垫及其生产工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118769144B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410946615.7，技术领域涉及：B24D11/00；该发明授权一种硅晶片高效率抛光无蜡垫及其生产工艺是由李加海;杨惠明;孙传东设计研发完成，并于2024-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅晶片高效率抛光无蜡垫及其生产工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅晶片高效率抛光无蜡垫及其生产工艺，属于无蜡垫技术领域，包括基础衬底层和吸附抛光层，基础衬底层上设置有吸附抛光层。本发明解决了现有的无蜡垫在使用时，由于无蜡垫缺乏内部支撑，导致无蜡垫支撑强度低，其无蜡垫易松弛而损坏，降低了无蜡垫的抛光效率的问题，本发明通过在基底层内增设支撑基柱和增强支杆，且使增强支杆均匀分布在支撑基柱的圆周面上，通过支撑基柱和增强支杆可提升基底层的支撑强度，通过进气口向支撑基柱内充气，经支撑基柱排至增强支杆内，经增强支杆上的排气孔排至基底层内，可使基底层充盈，可提升基底层的支撑强度，使无蜡垫支撑强度高，可避免无蜡垫松弛而损坏，可提升无蜡垫的抛光效率。

本发明授权一种硅晶片高效率抛光无蜡垫及其生产工艺在权利要求书中公布了：1.一种硅晶片高效率抛光无蜡垫，包括基础衬底层1和吸附抛光层2，其特征在于，所述基础衬底层1上设置有吸附抛光层2，所述基础衬底层1和吸附抛光层2的厚度比为1：1-2； 所述吸附抛光层2包括基底层21、抛光层22和吸附层23，所述基底层21设置在基础衬底层1上，所述基底层21上设置有抛光层22，所述抛光层22上开设有硅晶片放置槽221，所述硅晶片放置槽221内设置有吸附层23； 所述基底层21内设置有支撑增强组件24，所述支撑增强组件24包括支撑基柱241和增强支杆242，所述支撑基柱241设置在基底层21内，所述支撑基柱241的圆周面上均匀分布有增强支杆242，所述增强支杆242用于增强基底层21的支撑强度； 所述支撑基柱241和增强支杆242相连通，所述支撑基柱241上设置有进气口2411，所述进气口2411密封连接在基底层21上，且进气口2411贯穿抛光层22，所述增强支杆242位于基底层21内，所述增强支杆242的底部和顶部均设置有排气孔2421，所述排气孔2421等间距分布。

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