季华实验室钟志成获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118915325B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411409980.0，技术领域涉及：G02B27/09；该发明授权用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备是由钟志成;曹艳波;郑昕;戴深宇;田兴志设计研发完成，并于2024-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备在说明书摘要公布了：本申请属于光学整形系统技术领域，公开了一种用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备，包括沿一光轴从前到后依次间隔设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜和照射面，通过第一透镜对入射高斯光束进行调制，第二透镜将光线转换为平行光，第三透镜聚焦形成微米级方形均匀光斑，从而解决了现有技术中难以获得微米级方形均匀光斑的问题，具有能够获得微米级方形均匀光斑、光能利用率高、成本低的优点。
本发明授权用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置及激光设备在权利要求书中公布了：1.一种用于获取微米级方形均匀光斑的光束整形装置，其特征在于，包括沿一光轴从前到后依次间隔设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜和照射面； 所述第一透镜用于对入射高斯光束的光线角度进行调制，使调制后的光束在所述第二透镜的前表面的光强分布沿x轴方向和y轴方向均符合sinc函数形貌；x轴方向和y轴方向相互垂直且均垂直于所述光轴； 所述第二透镜用于改变入射到所述第二透镜的光线的折射角度，使所述光线重新转换为平行光出射； 所述第三透镜为聚焦透镜，并用于把所述第二透镜的出射光聚焦在所述照射面上，形成微米级方形均匀光斑； 所述第一透镜的前表面为平面，后表面为曲面，所述第一透镜的后表面用于对入射高斯光束的光线角度进行调制； 所述第二透镜的前表面为曲面，后表面为平面，所述第二透镜的前表面用于改变入射到所述第二透镜的光线的折射角度，使所述光线重新转换为平行光出射。
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