北京航空航天大学陈爱华获国家专利权
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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利光响应薄膜材料的制备方法、光响应薄膜材料、紫外光监测器件及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119332409B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411454516.3，技术领域涉及：D04H1/4358；该发明授权光响应薄膜材料的制备方法、光响应薄膜材料、紫外光监测器件及系统是由陈爱华;陈天浩设计研发完成，并于2024-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本光响应薄膜材料的制备方法、光响应薄膜材料、紫外光监测器件及系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种光响应薄膜材料的制备方法、光响应薄膜材料、紫外光监测器件及系统，该方法包括：在二羟基低聚物与二异氰酸酯基单体聚合而成的聚合物中加入4,4'‑二羟基己氧基偶氮苯，得到含偶氮苯基团的聚氨酯，将聚氨酯和压电聚合物溶解于高沸点溶剂中，得到电纺液，采用电纺液进行静电纺丝，获得光响应薄膜材料。本发明通过将含有六碳间隔基的4,4'‑二羟基己氧基偶氮苯作为扩链剂加入二羟基低聚物与二异氰酸酯基单体的聚合物，得到含偶氮苯基团的紫外光响应的聚氨酯，进而能通过上述聚氨酯和压电聚合物的结合，制备得到柔性更佳、力学性能更好且具有良好紫外光响应的光响应薄膜材料，上述光响应薄膜材料的制备流程简单，制备成本较低。
本发明授权光响应薄膜材料的制备方法、光响应薄膜材料、紫外光监测器件及系统在权利要求书中公布了：1.一种光响应薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括： 将4,4'-二羟基偶氮苯、6-溴正己醇和催化剂置于碱性条件下，在100-160℃的温度范围内反应12-24小时，得到4,4'-二羟基己氧基偶氮苯； 将二羟基低聚物与二异氰酸酯基单体进行混合，将所得的混合物在氮气气氛下60-100℃的温度范围内预聚2小时，获得聚合物； 在所述聚合物中加入所述4,4'-二羟基己氧基偶氮苯作为扩链剂，得到含偶氮苯基团的聚氨酯； 将所述聚氨酯和压电聚合物溶解于高沸点溶剂中，得到电纺液，所述高沸点溶剂的沸点不低于120℃； 采用所述电纺液进行静电纺丝，获得所述光响应薄膜材料。
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