常州大学任秀秀获国家专利权
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龙图腾网获悉常州大学申请的专利一种具有疏松过渡层的有机硅膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119386680B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411507888.8，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种具有疏松过渡层的有机硅膜及其制备方法与应用是由任秀秀;顾袁良;钟璟设计研发完成，并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有疏松过渡层的有机硅膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有疏松过渡层的有机硅膜及其制备方法与应用，属于膜分离技术领域。本发明将碳纳米管与酸反应，洗涤、干燥，得到羧基化碳纳米管COOH‑CNTs；并与SiO2‑ZrO2溶胶混合均匀，得到COOH‑CNTsSiO2‑ZrO2溶胶；将其涂覆到管状陶瓷支撑体上，煅烧得到具有疏松过渡层的陶瓷支撑体；将有机硅溶胶涂覆到所得的具有疏松过渡层的陶瓷支撑体上，热处理形成分离层，得到所述有机硅膜。本发明COOH‑CNTs使溶胶颗粒能够分散到线性网格中，且本身具有亲水性和孔道结构，能使较多水分子快速通过，降低了水分子在过渡层和分离层的渗透阻力，在渗透汽化分离溶剂水的溶液中，表现了较好的分离性能。
本发明授权一种具有疏松过渡层的有机硅膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种具有疏松过渡层的有机硅膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1将碳纳米管与酸反应，洗涤、干燥，得到羧基化碳纳米管COOH-CNTs； 2向步骤1制得的COOH-CNTs与SiO2-ZrO2溶胶中加入水，混合均匀，得到COOH-CNTsSiO2-ZrO2溶胶； 3将步骤2制得的COOH-CNTsSiO2-ZrO2溶胶涂覆到管状陶瓷支撑体上，煅烧，得到具有疏松过渡层的陶瓷支撑体； 4将有机硅溶胶涂覆到步骤3所得的具有疏松过渡层的陶瓷支撑体上，热处理形成分离层，得到所述有机硅膜； 所述有机硅溶胶通过有机硅源前驱体1,2-双三乙氧基硅基乙烷或双三乙氧基硅基甲烷进行水解聚合反应制得。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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