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龙图腾网获悉南京大学申请的专利基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119439680B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411891152.5，技术领域涉及：G03H1/08；该发明授权基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法是由陈伟;杨嘉辰;于安卓;马玲玲;陆延青设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法，涉及全息摄影技术领域。所述方法包括如下步骤：通过沿x轴与y轴方向入射，相对于z轴倾斜的两束结构光入射，形成点状干涉结构；对所述点状干涉结构进一步处理，形成点阵二值振幅全息图；利用所述点阵二值振幅全息图，将其与非线性光子晶体相结合，形成非线性全息图；利用步骤三所得非线性光子晶体，通过基频光垂直入射全息结构，在x与y轴傅里叶面上分别复现两束高保真倍频结构光。本发明所述方法得到的非线性全息图具有良好的抗噪声能力，对于非线性晶体加工过程中的畴结构边缘扩散不敏感，其实际得到的非线性结构光场相较理想结果具有很高的保真度。

本发明授权基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法在权利要求书中公布了：1.一种基于三光束非线性全息的高保真结构化光场生成方法，其特征在于包括如下步骤： S1：通过沿x轴与y轴方向入射，相对于z轴倾斜的两束结构光入射，形成点状干涉结构； S2：对所述点状干涉结构进一步处理，形成点阵二值振幅全息图； S3：利用所述点阵二值振幅全息图，将其与非线性光子晶体相结合，形成非线性全息图； S4：利用步骤三所得非线性全息图，通过基频光垂直入射全息结构，在x轴与y轴傅里叶面上分别复现两束高保真倍频结构光； 所述S1中产生点状干涉结构的方法包括如下步骤： 选取两束结构光表达式分别为： 其中，As1x,y,As2x,y与φs1x,y,φs2x,y分别表示两束光的强度和相位分布，将上述两束结构光叠加一个倾斜相位： 其中λ是入射光的波长； 给两束光叠加透镜相位： 所述步骤S3中全息图的结构函数为： p1x,y＝φs1x,y+φs1_tiltx,y+φs1_lensx,y,f1 p2x,y＝φs2x,y+φs2_tiltx,y+φs2_lensx,y,f2 其中与分别表示As1x,y与As2x,y的最大值，使得强度函数归一化。

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