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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法及超构透镜器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119828339B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510021972.7，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法及超构透镜器件是由张诚;邢振宇;林哲霖;刘妞;刘泽阳设计研发完成，并于2025-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法及超构透镜器件在说明书摘要公布了：本发明公开了一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法及超构透镜器件，属于光学成像技术领域；所设计的器件能够根据入射光的偏振态，分别实现独立的明场和边缘增强成像功能；组成器件的纳米单元的截面为各向异性的C2对称形状，且截面的长短轴相互垂直，使得偏振方向平行和垂直于长轴的线偏振光通过纳米单元后具有独立的相位延迟，因此基于波导相位或波导加几何相位调控，将明场与边缘增强成像相位分别施加到一对正交偏振态上，即可使器件在其中一个偏振态下进行明场成像，在另一个偏振态下进行边缘增强成像，能够在无需借助其他成像器件、且满足分辨率要求的条件下，实现工作带宽较宽、成像模式切换便捷性较高的双功能成像。

本发明授权一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法及超构透镜器件在权利要求书中公布了：1.一种单片式的偏振复用双功能超构透镜器件的设计方法，其特征在于，包括： 将纳米阵列设置于衬底的A面上；纳米阵列包括：呈周期性排列、高度相同、且尺寸为亚波长的各向异性纳米单元；纳米单元中与A面平行的截面呈C2对称形状，且所述截面的长轴与短轴相互垂直；A面为衬底的任意一面； 在A面上建立x-y坐标系； 当入射光为x线偏振光或y线偏振光，且所述超构透镜器件用于在x线偏振光下对目标物体进行明场成像，在y线偏振光下对目标物体进行边缘增强成像时：对各纳米单元进行排布，使各纳米单元的长轴与x轴的夹角为0°或90°，并使纳米阵列在x、y偏振方向上的相位分布、满足：，； 其中，为使超构透镜器件的点扩散函数的强度分布为艾里斑分布、点扩散函数的相位分布为常数相位分布的相位分布；为使超构透镜器件的点扩散函数的强度分布为甜甜圈分布、点扩散函数的相位分布为涡旋相位分布的相位分布； 所述目标物体和所述超构透镜器件被依次设置在入射光的传播方向上，且入射光的传播方向与所述A面垂直。

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