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龙图腾网获悉河南科技大学申请的专利一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119860727B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510122003.0，技术领域涉及：G01B11/30；该发明授权一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置是由王丹丹;吴鹏鹍;李晓川;张毅;郑旭东;王鑫鑫;吕珍龙;周锋子;胡博通;王旭;李志鹏;宋香君设计研发完成，并于2025-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置在说明书摘要公布了：一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置，该检测方法如下：点光源经扩束镜拓展后经过一侧镀有半透半反膜的分光镜G1产生反射光和透射光，反射光垂直入射至平面全反射镜M1，透射光穿过与分光镜G1平行的补偿镜G2后垂直入射至平面全反射镜M2，相互垂直设置M1和M2将入射光反射后再次回到分光镜G1半透半反膜处，经过透射和反射后通过聚焦透镜L2在成像区F处呈现基准干涉条纹图像；将平面全反射镜M2替换为待测硅片，对平面全反射镜M1的位置进行调整，在成像区F处呈现待测硅片干涉条纹图像；通过计算机对上述图像处理并计算得到待测硅抛光片的平整度参数。该方法具有非接触性、自动化程度好等特点，具有非常可观的发展前景。

本发明授权一种用于硅抛光片平整度的检测方法及检测装置在权利要求书中公布了：1.一种用于硅抛光片平整度的检测方法，其特征在于：步骤如下： S1、点光源S发出的光束经扩束镜L1拓展后经过一侧镀有半透半反膜的分光镜G1产生反射光和透射光，反射光垂直入射至平面全反射镜M1，透射光穿过与分光镜G1平行的补偿镜G2后垂直入射至平面全反射镜M2，相互垂直设置M1和M2将入射光反射后再次回到分光镜G1半透半反膜处，分别经过透射和反射后通过聚焦透镜L2在成像区F处呈现基准干涉条纹图像，存储该图像备用； S2、将平面全反射镜M2替换为待测硅抛光片，然后通过位移调节机构对平面全反射镜M1的位置进行调整，使得在成像区F处呈现待测硅片干涉条纹图像，存储该图像备用； S3、将上述步骤得到的基准干涉条纹图像和待测硅片干涉条纹图像输入至计算机，计算机分别对两个图像进行灰度处理并将其叠加和旋转操作后形成莫尔条纹图，通过灰度计算形成该灰度图的灰度矩阵，然后通过计算机处理得到待测硅抛光片的平整度参数； 在步骤S3中，采用计算机处理的具体过程如下： S3.1、采用CCD相机分别获取基准干涉条纹图像和待测硅片干涉条纹图像并输入至计算机，利用软件进行亮度饱和度的统一处理以增加图片的可分辨度，所产生的灰度矩阵，暗区的单元格数值在10以内与亮区域有很明显的断层区分； S3.2、所得灰度图并对明条纹的中心和宽度进行识别，图片采用的是竖直条纹作为检测样本，采用横向灰度值检索的方式来检索条纹的位置，首先要引入一个明暗的分离值w1，分离值w1在20-45左右，按行进行逐个灰度单元格的检索，在灰度值大于所设立的分离值时，进行长度加1记录，直至之后的亮度低于分离值，将长度记录，并将长度的一半的位置作为条纹的中心点同时记录数据，然后将长度变量清空并继续进行检测，以此类推，直至将这一整行检索完毕，再进行下一行的检索并将结果统一记录在另一个矩阵当中； S3.3、对间距进行采集并滤掉不合理间距，并得到合理的莫尔条纹灰度图； S3.4、对于上一步所产生的条纹间距进行排序，选取中位数作为标准间距，并依次拿所有合理间距与标准间距作比较得到彼此间级次的差异，然后算出对应的凹陷凸出深度，并对这些深度取最大值，便得到平面的最大凹凸深度，该最大凹凸深度值即为待测硅抛光片的平整度参数。

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