武汉正源高理光学有限公司李钦洲获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉正源高理光学有限公司申请的专利环片刻蚀治具获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223445428U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422973161.0，技术领域涉及：C03C15/00；该实用新型环片刻蚀治具是由李钦洲设计研发完成，并于2024-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本环片刻蚀治具在说明书摘要公布了：本申请公开了一种环片刻蚀治具，包括底座以及凸台组件，底座开设有若干第一通孔，凸台组件设于底座的一侧，凸台组件具有背向底座的承载面以及用于抵持环片内侧壁的抵持部，通过承载面能够支撑环状码盘，通过抵持部能都抵持环状码盘的内侧壁，从而对环状码盘进行限位，通过底座上开设有若干第一通孔以及承载面与底座间隔设置，如此，流经环状码盘表面的刻蚀液能够通过第一通孔快速流至下方的溶液槽内，从而提高产品的一致性。
本实用新型环片刻蚀治具在权利要求书中公布了：1.一种环片刻蚀治具，其特征在于，包括： 底座，开设有若干第一通孔；以及 凸台组件，设于所述底座的一侧，所述凸台组件具有背向所述底座的承载面以及用于抵持所述环片内侧壁的抵持部； 其中，所述承载面与底座间隔设置，且在所述环片位于所述承载面上时，所述抵持部用于抵持所述环片的内侧壁。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉正源高理光学有限公司，其通讯地址为：430223 湖北省武汉市华中科技大学华工科技园；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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