拉普拉斯(西安)科技有限责任公司刘龙龙获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉拉普拉斯(西安)科技有限责任公司申请的专利磁控溅射镀膜装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223445626U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421928712.5，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型磁控溅射镀膜装置是由刘龙龙;李亮生;祁文杰;刘群设计研发完成，并于2024-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁控溅射镀膜装置在说明书摘要公布了：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了磁控溅射镀膜装置。该磁控溅射镀膜装置包括上镀膜腔室、下镀膜腔室、第一真空组件和第二真空组件，上镀膜腔室和下镀膜腔室并列排布，第一真空组件对上镀膜腔室抽真空，且提供第一物料运输空间，第二真空组件对下镀膜腔室抽真空，且提供第二物料运输空间，第二真空组件包括第二真空腔室和抽气口，抽气口设置于第二真空腔室内，且抽气口位于第二物料运输空间的下方。这种磁控溅射镀膜装置镀膜时，第三真空组件对下镀膜腔室的下方进行抽真空，能够避免抽气时载板的影响，能够提升抽气均匀性，进而提升镀膜效果，确保镀膜的均匀性。
本实用新型磁控溅射镀膜装置在权利要求书中公布了：1.磁控溅射镀膜装置，用于对物料进行镀膜，其特征在于，所述磁控溅射镀膜装置包括： 上镀膜腔室，用于对所述物料的上表面进行镀膜； 下镀膜腔室，用于对所述物料的下表面进行镀膜； 第一真空组件，设置于所述上镀膜腔室的一侧，用于对所述上镀膜腔室抽真空，以及提供第一物料运输空间； 第二真空组件，设置于所述下镀膜腔室的一侧，用于所述下镀膜腔室抽真空，以及提供第二物料运输空间，其中，所述第二真空组件包括第二真空腔室和抽气口，所述抽气口设置于所述第二真空腔室内，且所述抽气口位于所述第二物料运输空间的下方。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拉普拉斯(西安)科技有限责任公司，其通讯地址为：712000 陕西省西安市西咸新区泾河新城崇文镇泾河三街76号光电子学研究与创新中心3号楼3-4层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励