深圳市矩阵多元科技有限公司龚文志获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利磁控溅射均匀镀膜装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223445632U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422851669.3，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型磁控溅射均匀镀膜装置是由龚文志;宋魏;邵寿潜;罗敏;张晓军设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁控溅射均匀镀膜装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种磁控溅射均匀镀膜装置，包括基片台和多个旋转磁控溅射阴极，多个旋转磁控溅射阴极并排设于基片台的上方，旋转磁控溅射阴极包括靶管、磁性体、第一驱动件和第二驱动件，靶管能绕自身轴心线转动，所有靶管相互平行，靶管的外表面套设有靶材，或者靶管由靶材形成，磁性体设于靶管内，并能绕靶管的轴心线来回摆动，磁性体相对于靶管的轴心线所在的竖直面摆动不同角度时会停留预设时间，且磁性体摆动到至少部分不同的角度时所停留的时间不同，第一驱动件连接于靶管，第二驱动件连接于磁性体。本实用新型的磁控溅射均匀镀膜装置，不仅能使镀膜的膜厚更加均匀，而且基片不容易粘附灰尘颗粒，镀膜质量更好。
本实用新型磁控溅射均匀镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射均匀镀膜装置，其特征在于，包括： 基片台，用于放置待镀膜的基片； 多个旋转磁控溅射阴极，并排设于所述基片台的上方，所述旋转磁控溅射阴极包括： 靶管，能绕自身轴心线转动，所有所述靶管相互平行，所述靶管的外表面套设有靶材，或者所述靶管由靶材形成； 磁性体，设于所述靶管内，并能绕所述靶管的轴心线来回摆动，所述磁性体相对于所述靶管的轴心线所在的竖直面摆动不同角度时会停留预设时间，且所述磁性体摆动到至少部分不同的角度时所停留的时间不同； 第一驱动件，连接于所述靶管，以驱动所述靶管转动； 第二驱动件，连接于所述磁性体，以驱动所述磁性体摆动。
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