拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司龙占勇获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请的专利加热装置及外延设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223445688U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423010302.5,技术领域涉及:C30B25/10;该实用新型加热装置及外延设备是由龙占勇;韩雪岭;李洪;梁展程;刘定财;黄耿斌设计研发完成,并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本加热装置及外延设备在说明书摘要公布了:本实用新型属于半导体处理设备技术领域,公开了加热装置及外延设备,加热装置包括至少两个加热体,其中每个加热体的上设置有至少两个向外凸出的凸台,每个加热体均对应有两个第一连接体,两个第一连接体的一端端面设置有第一承托槽,第一连接体的另一端连接于电极,每个加热体上的其中一个凸台能够嵌于其中一个第一承托槽内,另一个凸台能够嵌于另一个第一承托槽内;以能够通过每个加热体对应的两个第一连接体使不同的加热体在高度方向上间隔分布;外延设备包括反应腔体和上述的加热装置,加热装置设置于反应腔体内,凸台能够与第一连接体稳定连接,使控温效果更好,使用寿命长。
本实用新型加热装置及外延设备在权利要求书中公布了:1.加热装置,应用于外延设备,其特征在于,包括: 加热体1,所述加热体1上设置有至少两个向外凸出的凸台2; 多个第一连接体3,所述第一连接体3延高度方向的一端端面设置有第一承托槽31,所述第一连接体3延所述高度方向的另一端连接于电极4,所述第一连接体3能够导电; 所述加热体1上的其中一个所述凸台2嵌于其中一个所述第一承托槽31内,另一个所述凸台2嵌于另一个所述第一承托槽31内。
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