艾斯尔光电(南通)有限公司陈宏渊获国家专利权
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龙图腾网获悉艾斯尔光电(南通)有限公司申请的专利一种基于回收处理的再生光刻掩膜版获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223450312U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422712056.1，技术领域涉及：G03F1/00；该实用新型一种基于回收处理的再生光刻掩膜版是由陈宏渊设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于回收处理的再生光刻掩膜版在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种基于回收处理的再生光刻掩膜版，属于光刻掩膜版领域，以解决光刻掩膜版固定以及循环使用的问题，包括掩膜版基材；所述掩膜版基材的上下端面上均覆盖有图形层，图形层的外侧均覆盖有防护层，掩膜版基材的内部为中空状，掩膜版基材采用经过表面处理的回收材料制成；该基于回收处理的再生光刻掩膜版通过在掩膜版基材的前后侧壁的左右两端中间处均开设有安装卡槽且安装卡槽内壁具有一定的粗糙度，以便与光刻设备的定位装置相匹配并与安装夹具紧密结合，防止在光刻过程中掩膜版发生位移，通过开设贯穿的固定孔位，在安装夹具和安装卡槽紧密贴合时，通过插销贯穿固定孔位，便可将安装夹具和安装卡槽牢牢的固定在一起。
本实用新型一种基于回收处理的再生光刻掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种基于回收处理的再生光刻掩膜版，其特征在于：包括掩膜版基材1；所述掩膜版基材1的上下端面上均覆盖有图形层2，图形层2的外侧均覆盖有防护层3，掩膜版基材1的内部为中空状，掩膜版基材1采用经过表面处理的回收材料制成。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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