福建省晋华集成电路有限公司张钦福获国家专利权
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龙图腾网获悉福建省晋华集成电路有限公司申请的专利存储器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114497046B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210102777.3，技术领域涉及：H10B12/00；该发明授权存储器是由张钦福;林昭维;朱家仪;朴成;童宇诚设计研发完成，并于2020-04-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本存储器在说明书摘要公布了：本发明提供了一种存储器。利用第一分隔线和第二分隔线界定出节点接触窗，其中第二分隔线中的底部垫层和顶部主体层依次形成在字线遮蔽层上，并利用绝缘层覆盖第二分隔线，以提高所述第二分隔线对相邻的节点接触部的隔离性能。
本发明授权存储器在权利要求书中公布了：1.一种存储器，其特征在于，包括： 衬底；所述衬底包括有源区和沟槽隔离结构； 字线，形成在位于所述衬底中的字线沟槽内，所述字线的顶部低于所述字线沟槽的顶部； 字线遮蔽层，形成在所述字线沟槽高于所述字线的上方空间中； 多条第一分隔线和多条第二分隔线，形成在所述衬底上，所述第一分隔线和所述第二分隔线相交以界定出节点接触窗；其中，所述第二分隔线包括依次堆叠设置在所述字线遮蔽层上的底部垫层和顶部主体层，所述底部垫层直接接触所述字线遮蔽层；以及， 绝缘层，至少覆盖所述第二分隔线中的所述底部垫层和所述顶部主体层的侧壁； 其中，所述节点接触窗向下凹陷至所述衬底中并暴露有所述有源区和所述沟槽隔离结构，所述绝缘层的底面低于所述衬底顶面，并直接接触所述有源区以及所述沟槽隔离结构。
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