广州方邦电子股份有限公司;珠海达创电子有限公司苏陟获国家专利权
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龙图腾网获悉广州方邦电子股份有限公司;珠海达创电子有限公司申请的专利金属箔、应用于电池的负极材料和电池获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115425169B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210910568.1,技术领域涉及:H01M4/13;该发明授权金属箔、应用于电池的负极材料和电池是由苏陟设计研发完成,并于2022-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属箔、应用于电池的负极材料和电池在说明书摘要公布了:本发明公开了一种金属箔、应用于电池的负极材料和电池。所述金属箔包括至少一层不导电的支持体,以及分别位于所述支持体两个表面的导电层,分别为第一导电层和第二导电层,所述第一导电层的远离所述支持体的一侧表面为第一表面,所述第二导电层的远离所述支持体的一侧表面为第二表面;则所述第一表面的TD方向的粗糙度Rzat等于或大于所述第一表面的MD方向的粗糙度Rzam;所述第二表面的TD方向的粗糙度Rzbt等于或大于所述第二表面的MD方向的粗糙度Rzbm。采用本发明,通过优化金属箔表面的粗糙度,有效提高了金属箔表面的结构性能的均匀合理性,提高了金属箔以及应用该金属箔的产品的质量。
本发明授权金属箔、应用于电池的负极材料和电池在权利要求书中公布了:1.一种金属箔,其特征在于,包括至少一层不导电的支持体,以及分别位于所述支持体两个表面的导电层,分别为第一导电层和第二导电层,所述第一导电层的远离所述支持体的一侧表面为第一表面,所述第二导电层的远离所述支持体的一侧表面为第二表面;则所述第一表面的TD方向的粗糙度Rzat等于或大于所述第一表面的MD方向的粗糙度Rzam;所述第二表面的TD方向的粗糙度Rzbt等于或大于所述第二表面的MD方向的粗糙度Rzbm,以使所述第一表面和所述第二表面的结构和性能均匀一致,减少表面产生褶皱; 所述第一表面的MD方向的粗糙度Rzam与所述第一表面的TD方向的粗糙度Rzat的比值处于之间,和或,所述第二表面的MD方向的粗糙度Rzbm与所述第二表面的TD方向的粗糙度Rzbt的比值处于之间; 并且,所述第一表面的MD方向的算术平均粗糙度Raam与所述第二表面的MD方向的算术平均粗糙度Rabm的比值处于之间,和或,所述第一表面的TD方向的算术平均粗糙度Raat与所述第二表面的TD方向的算术平均粗糙度Rabt的比值处于之间。
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