东京毅力科创株式会社高桥信博获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115483097B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210574998.0，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由高桥信博;松永淳一郎;堀川清贵设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：本公开涉及一种基板处理方法和基板处理装置，抑制蚀刻后的硅膜的表面粗糙度。实施以下工序：第一工序，向在表面形成有硅膜且被设为第一温度的基板供给包含含卤素气体和碱性气体的处理气体，使所述硅膜的表面改性而生成反应产物；以及第二工序，在所述第一工序之后，将所述基板设为第二温度来去除所述反应产物。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括： 第一工序，向在表面形成有硅膜且被设为第一温度的基板供给包含含卤素气体和碱性气体的处理气体，使所述硅膜的表面改性而生成反应产物；以及 第二工序，在所述第一工序之后，将所述基板设为第二温度来去除所述反应产物， 其中，在所述第一工序中，在所述反应产物残留于所述硅膜上的状态下向所述基板供给所述处理气体达到预定时间或更长时间，来使得所述反应产物的厚度变得均匀。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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