东京毅力科创株式会社高桥信博获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利蚀刻方法和蚀刻装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115483098B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210647736.2，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权蚀刻方法和蚀刻装置是由高桥信博;中込健设计研发完成，并于2022-06-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本蚀刻方法和蚀刻装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种蚀刻方法和蚀刻装置，使蚀刻后的含锗膜的形状成为期望的形状。所述蚀刻方法包括以下工序：将基板保存到处理容器内的工序，所述基板具备由是含锗膜的侧壁构成的凹部；蚀刻工序，向所述处理容器内供给包含第一含氟气体和第二含氟气体的蚀刻气体，来对所述侧壁进行蚀刻；以及形状控制工序，其包含于所述蚀刻工序，在该形状控制工序中，调整该处理容器内的所述第一含氟气体的分压或者向所述处理容器内供给的所述第二含氟气体相对于该第一含氟气体的流量的比例，来控制蚀刻后的所述侧壁的形状。
本发明授权蚀刻方法和蚀刻装置在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻方法，包括以下工序： 将基板保存到处理容器内的工序，所述基板具备由是含锗膜的侧壁构成的凹部； 蚀刻工序，向所述处理容器内供给包含第一含氟气体和第二含氟气体的蚀刻气体，来对所述侧壁进行蚀刻；以及 形状控制工序，其包含于所述蚀刻工序，在该形状控制工序中，调整该处理容器内的所述第一含氟气体的分压，来控制蚀刻后的所述侧壁的形状， 其中，所述凹部包括： 第一凹部，其由第一侧壁构成，且具有第一宽度；以及 第二凹部，其由第二侧壁构成，且具有比所述第一宽度宽的第二宽度， 在所述形状控制工序中，控制所述蚀刻工序中的所述第一侧壁的蚀刻量和所述第二侧壁的蚀刻量的各蚀刻量的大小。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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