上海华虹宏力半导体制造有限公司张连宝获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利半导体量测结构及其量测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116045766B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211579445.0，技术领域涉及：G01B5/02；该发明授权半导体量测结构及其量测方法是由张连宝设计研发完成，并于2022-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体量测结构及其量测方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种半导体量测结构及其量测方法，包括光栅原件和量测组件，光栅原件包括多个平行且等间距排布的光栅线条图形；量测组件包括多个平行且等间距排布的第一线条图形和多个平行且等间距排布的第二线条图形，且光栅线条图形、第一线条图形和第二线条图形的延伸方向相同；其中，光栅线条图形的光栅宽度与第一线条图形的第一宽度相同，相邻光栅线条图形间的光栅间距与相邻第二线条图形间的第二间距相同，相邻第一线条图形间的第一间距与第二线条图形的第二宽度相同。本发明通过获取第一间距和第二宽度的量测值来计算光栅宽度和光栅间距的实际值，从而减小了量测复杂度和时间成本，实现了光栅原件合格性的快速检测。
本发明授权半导体量测结构及其量测方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体量测结构，其特征在于，包括光栅原件和量测组件，其中： 所述光栅原件包括多个光栅线条图形，多个所述光栅线条图形平行且等间距排布； 所述量测组件包括多个第一线条图形和多个第二线条图形，多个所述第一线条图形平行且等间距排布，多个所述第二线条图形平行且等间距排布，且所述光栅线条图形、所述第一线条图形和所述第二线条图形的延伸方向相同； 所述光栅线条图形具有的光栅宽度与所述第一线条图形具有的第一宽度相同，相邻所述光栅线条图形间具有的光栅间距与相邻所述第二线条图形间具有的第二间距相同，相邻所述第一线条图形间具有的第一间距与所述第二线条图形具有的第二宽度相同。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海华虹宏力半导体制造有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祖冲之路1399号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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