复旦大学宁波研究院祝曦获国家专利权
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龙图腾网获悉复旦大学宁波研究院申请的专利一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116209129B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310175751.6，技术领域涉及：H05H1/26；该发明授权一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法是由祝曦;樊嘉杰设计研发完成，并于2023-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法，属于表面处理领域，系统包括等离子体射流阵列、电源装置和气源装置；等离子体射流阵列包括依次布置的三个射流单元；各射流单元均与气源装置及电源装置相连接；气源装置包括分别与三个射流单元相连接的惰性气体储罐、空气储罐和反应媒介储罐，三个射流单元工作时分别产生用于对DBC基板表面进行清洗、氧化改性及薄膜沉积的射流体羽；反应媒介为甲氧基硅烷、四氯化钛或四氟化碳，使得通过所沉积的薄膜对DBC基板表面的介电参数进行优化以提高电气强度。本发明不但能够改善DBC基板表面电气强度，而且还具有废弃物排放低、能源损耗低、适于流水线作业的特点。
本发明授权一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于等离子体射流阵列的DBC基板表面处理系统，其特征在于：包括等离子体射流阵列、电源装置和气源装置；所述等离子体射流阵列包括依次布置的三个射流单元，即射流单元A、射流单元B及射流单元C；其中；各所述射流单元均与所述气源装置及所述电源装置相连接； 其中，所述气源装置包括惰性气体储罐、空气储罐和反应媒介储罐，所述射流单元A与所述惰性气体储罐相连接，所述射流单元B与所述空气储罐相连接，所述射流单元C与所述惰性气体储罐以及所述反应媒介储罐相连接，以使得所述射流单元A、所述射流单元B及所述射流单元C工作时分别产生用于对DBC基板表面进行清洗、氧化改性及薄膜沉积的射流体羽；其中所述反应媒介为甲氧基硅烷、四氯化钛或四氟化碳，使得通过所沉积的薄膜对DBC基板表面的介电参数进行优化以提高电气强度。
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