福建闽航电子有限公司林智杰获国家专利权
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龙图腾网获悉福建闽航电子有限公司申请的专利一种带V型腔的陶瓷外壳及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116313823B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211665348.3,技术领域涉及:H01L21/48;该发明授权一种带V型腔的陶瓷外壳及其制造方法是由林智杰;张南菊;常发;王羽;戴品强;傅建树设计研发完成,并于2022-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带V型腔的陶瓷外壳及其制造方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种带V型腔的陶瓷外壳及其制造方法,所述方法包括有准备生瓷片,生瓷片依次分为为底片大板、中片大板和上片大板;分别对上片大板和中片大板进行冲孔处理;在第一中片单元上印刷金属线路;对第二中片单元进行层压处理,并用激光打孔机加工出斜面,得到带V型腔体的瓷片层;将经过步骤S3处理的第一中片单元沿着第二腔体边缘进行切割刀痕处理;将第一中片单元和瓷片层通过定型层压板压合成中片大板;按照叠放的先后顺序,将底片大板、中片大板和上片大板叠合后,进行层压处理,得到坯体;将坯体分切成m个坯体单元;对坯体单元进行烧结,得到陶瓷单元。通过本发明的制造方法,能够制造出带V型腔体的陶瓷外壳,从而增加了光耦合器的受光面积。
本发明授权一种带V型腔的陶瓷外壳及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种带V型腔的陶瓷外壳的制造方法,其特征在于:包括有如下步骤: S1、准备生瓷片,并按照叠放的先后顺序,将生瓷片依次分为底片大板、中片大板和上片大板;所述中片大板包括有一个第一中片单元和n个第二中片单元; S2、分别对上片大板、第一中片单元和第二中片单元进行冲腔处理,在上片大板上冲出第一腔体,在第一中片单元上冲出第二腔体,在第二中片单元上冲出第三腔体; S3、第一中片单元上印刷金属线路; S4、n个第二中片单元叠放后进行层压处理,并用激光打孔机加工出斜面,得到带V型腔体的瓷片层; S5、将第一中片单元沿着第二腔体边缘进行切割刀痕处理; S6、将瓷片层和经过步骤S5处理的第一中片单元通过定型层压板压合成带V型腔体的中片大板; S7、按照叠放的先后顺序,将底片大板、中片大板和上片大板叠合后,进行层压处理,得到坯体; S8、将坯体分切成m个坯体单元; S9、对坯体单元进行烧结,得到陶瓷单元。
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