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龙图腾网获悉中南大学申请的专利一种高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116988025B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310739730.2，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权一种高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜及其制备方法和应用是由李建军;秦峰设计研发完成，并于2023-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高硬度钛锆铌铪镍TiZrNbHfNi非晶高熵合金薄膜及其制备方法和应用，涉及高熵合金材料领域。本发明将金属元素Ni引入TiZrNbHf合金中，同时改变Ni含量对合金微结构进行调控，从而获得具有高强度硬度的TiZrNbHfNi高熵合金薄膜，其微观结构为非晶结构，具有薄膜致密、与基体结合良好、硬度高的特点，可用于耐腐蚀涂层；本发明利用单质金属靶材共溅射的方法避免了复杂的合金靶材制备，极大降低合金薄膜的制备成本。此外，相比于不含Ni的TiZrNbHf合金薄膜，本发明的TiZrNbHfNi高熵合金薄膜的硬度至少提高了23.8％。

本发明授权一种高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜，其特征在于，Ti：11~20%，Zr：11~20%，Nb：11~20%，Hf：17~32%，Ni：8~50%；所述高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜的制备方法，包括如下步骤： S1：靶材准备及安装：以Ti靶、Zr靶、Nb靶、Hf靶、Ni靶为靶材，将各靶材安装至沉积室靶腔内，再将基底送至沉积室，调节基底与各靶材之间的间距，并将沉积室的真空抽至5×10-5Pa； S2：清洗基底：通入氩气，调节沉积室气压，进行清洗； S3：靶材预溅射； S4：溅射沉积：首先打开与基底连接的旋转电机，设定好各靶材的溅射功率，待各靶材的溅射功率均达到稳定后同时打开各靶材的挡盖，进行溅射沉积；待样品在真空中充分冷却后取出，获得高硬度钛锆铌铪镍非晶高熵合金薄膜；其中，各靶材的溅射功率分别为：Ti45~140W，Zr30~94W，Nb29~90W，Hf34~106W，Ni46~168W，各靶材的镀率分别为：Ti0.0227~0.0705nms，Zr0.03~0.0941nms，Nb0.0234~0.0725nms，Hf0.0460~0.14353ns，Ni0.01764~0.0644nms。

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