嘉兴市小辰光伏科技有限公司吴家阳获国家专利权
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龙图腾网获悉嘉兴市小辰光伏科技有限公司申请的专利一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119220184B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411745047.0，技术领域涉及：C09G1/04；该发明授权一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法是由吴家阳;常帅锋;李斯良;韩军;邓泽晟;蒲兴文;丁雁鸿;段艳全;邱军辉;卓浩;徐一军设计研发完成，并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法在说明书摘要公布了：一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法，涉及单晶硅刻蚀技术领域，包括以下组分：反应促进剂、缓蚀阻垢剂、PH调节剂、脱泡剂、1,3‑双2‑羟基乙基‑2‑咪唑啉酮、2,5‑呋喃二甲醇、喹啉黄、甘草酸钠、三聚氰胺、羟丙基壳聚糖和去离子水。该添加剂低减重下的碱抛光效果好、效率高，稳定性佳，抛光面外观良好，对太阳能电池的光转换效率的增益作用明显。
本发明授权一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂，其特征在于，包括按质量百分比计算的以下组分：反应促进剂0.5wt%-1wt%、缓蚀阻垢剂1wt%-3wt%、PH调节剂2wt%-4wt%、脱泡剂0.05wt%-1wt%、1,3-双2-羟基乙基-2-咪唑啉酮0.05wt%-0.15wt%、2,5-呋喃二甲醇0.03wt%-0.12wt%、喹啉黄0.01wt%-0.06wt%、甘草酸钠0.01wt%-0.05wt%、三聚氰胺0.06wt%-0.11wt%、羟丙基壳聚糖0.04wt%-0.1wt%，余量为去离子水；所述反应促进剂为间硝基苯酚、3-硝基苯甲酸钠、4-硝基苯硫酸钾、N-叔丁氧羰基-L-2-硝基苯丙氨酸、2-硝基苄醇中的一种或多种；所述羟丙基壳聚糖的取代度≥80.0%。
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