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龙图腾网获悉武汉国创科光电装备有限公司申请的专利一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119283499B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411710161.X，技术领域涉及：B41J2/16；该发明授权一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头是由崔海鹏;邓晓雷;唐伟;曹万胜设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头在说明书摘要公布了：本申请涉及一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头，包括：包括在玻璃基底的底面加工喷孔和容纳槽；在玻璃基底的底面开设下沉环槽形成喷射凸台；图案化成型导电层，导电层的电极环分别环绕于喷射凸台的外侧，导电层的引线与电极环连接并延伸至容纳槽内以供外部柔性电路板连接。利用本申请中的加工工艺成型的电流体喷头，其喷射凸台外侧的电极环不易被污染，且通过加工接线孔和导电环，使得可在玻璃基底的顶面连接柔性电路板，而去除玻璃基底底面的占用结构，即可去除对打印高度调节的干涉，保证打印加工正常运行。

本发明授权一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头在权利要求书中公布了：1.一种电极高度集成的电流体喷头的加工工艺，其特征在于，其包括以下步骤： 获取玻璃基底； 在玻璃基底的底面加工阵列喷孔； 在玻璃基底的底面的每个喷孔的周围均加工下沉环槽，以形成多个喷射凸台； 在玻璃基底的底面的边缘处加工容纳槽，以使玻璃基底的底面呈台阶状，容纳槽的长度方向与喷孔的排列长度方向一致； 在玻璃基底的底部图案化成型导电层，导电层包括多个电极环和多个引线，多个电极环分别环绕于喷射凸台，多个引线分别与多个电极环连接，且多个引线均延伸至容纳槽的槽底； 在导电层表面覆盖保护层，并保持处于容纳槽的槽底处的部分导电层处于暴露状态，以供外部电路板连接； 完成电流体喷头的喷射板的加工； 其中，采用金属剥离工艺在玻璃基底的底面成型导电层； 使导电层的电极环成型于玻璃基底的底面，且环绕于所述喷孔布置；使所述导电层的引线成型于玻璃基底的底面、所述容纳槽的槽壁和槽底； 或使导电层的电极环成型于下沉环槽的槽底的中部，电极环与下沉环的槽壁留有安全距离，且电极环环绕于喷孔布置；使导电层的引线成型于下沉环槽的槽底和槽壁、玻璃基底的底面、以及容纳槽的槽壁和槽底。

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