福建省晋华集成电路有限公司刘利晨获国家专利权
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龙图腾网获悉福建省晋华集成电路有限公司申请的专利一种图案化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119451104B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411525178.8，技术领域涉及：H10B12/00；该发明授权一种图案化方法是由刘利晨;许培育设计研发完成，并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种图案化方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种图案化方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，通过增设掩膜层的方式，达到增大第一区中的图案密度，进而避免侧壁层发生倒塌的目的。
本发明授权一种图案化方法在权利要求书中公布了：1.一种图案化方法，其特征在于，包括： 提供基底，包括第一区和第二区； 形成第一掩膜层位于所述第一区和所述第二区上； 形成多个相互分隔设置的柱状掩膜结构位于所述第一区的所述第一掩膜层上，所述柱状掩膜结构包括自下而上依序层叠的第二掩膜层和第三掩膜层； 形成侧壁层覆盖所述柱状掩膜结构和所述基底； 形成第一光阻层覆盖所述第二区的所述基底上的所述侧壁层； 移除所述柱状掩膜结构顶面的所述侧壁层和所述第一区的所述基底上的所述侧壁层； 移除所述柱状掩膜结构中的所述第三掩膜层； 形成具有开口的第二光阻层位于所述第一区和所述第二区上，所述开口露出所述第一区中的部分所述柱状掩膜结构，所述第二光阻层覆盖所述第一区中的部分所述柱状掩膜结构和部分所述侧壁层及所述第二区中的所述基底和所述第一掩膜层； 以所述第二光阻层为掩膜，去除与所述开口对应的所述柱状掩膜结构中的所述第二掩膜层和其下方的所述第一掩膜层。
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