清华大学张昊获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利一种量子点薄膜图案化方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119497548B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311027394.5，技术领域涉及：H10K71/20；该发明授权一种量子点薄膜图案化方法与应用是由张昊;付钟设计研发完成，并于2023-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种量子点薄膜图案化方法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种量子点薄膜图案化方法与应用。该量子点薄膜图案化方法包括以下步骤：1将量子点与光敏交联剂混合后形成一薄层；2对所述薄层进行图案化曝光处理，得到图案化的量子点薄膜；其中，所述量子点的表面具有含有碳氢键的配体；所述光敏交联剂具有式Ⅰ所示的结构：式Ⅰ中，R1为供电子基团；n≥2；X为不影响单线态中间体生成的基团。该量子点薄膜图案化方法能在空气中实现不同种类、组成的量子点的高效图案化，具有分辨率高、普适性强、适用于大规模工业化生产的优点，可用于制备量子点LEDs等光电器件，能较大程度维持量子点材料本身的光电性能。
本发明授权一种量子点薄膜图案化方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种量子点薄膜图案化方法，其包括以下步骤： 1将量子点与光敏交联剂混合后形成一薄层； 2对所述薄层进行图案化曝光处理，得到图案化的量子点薄膜； 其中，所述量子点的表面具有含有碳氢键的配体； 所述光敏交联剂具有式Ⅰ所示的结构： 式Ⅰ， 其中，式Ⅰ中，R1含有苯基、醚基、亚烷基中的一种或两种以上的结构；n为2、3或4；X选自-CF3； 所述光敏交联剂的碳原子数为1-100，分子量为100-10000。
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