中国科学院上海光学精密机械研究所郭猛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119596429B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411888660.8，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜是由郭猛;蒋健文;蒋靖;易葵;邵宇川设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜在说明书摘要公布了：本发明提出一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜，该分光膜的工作角度为45°，通过数值计算建立倾斜入射下双面设计和单面设计的等效关系，设定45°单面透过率、反射率目标值，采用三种折射率交替的设计方法进行膜系匹配，完成膜系结构设计优化，然后在长波红外基底两面分别镀制相同膜系，实现该分光膜的制备。本发明的目的是实现在45°倾斜入射下，长波红外窗口在7μm‑12μm波段范围内透过率反射率为1：1的高效分光，该分光膜具有性能稳定，面形变化小，适用于成像、探测等光学系统。
本发明授权一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜在权利要求书中公布了：1.一种倾斜入射高效宽带长波分光薄膜，其特征在于，基于倾斜入射下双面设计和单面设计的等效关系，设定45°单面设计透过率、反射率目标值，采用高、中、低三种折射率交替的设计方法进行膜系匹配，在初始膜系结构基础上完成设计优化，实现45°倾斜入射下，长波红外窗口在7μm-12μm波段范围内透过率反射率为1：1的高效分光； 所述的初始膜系结构表达式为Ga1Ha2Ma3L^na1HA，其中G为基底，H、M、L分别为光学厚度为λ4高、中、低三种折射率材料，n为膜层周期数，a1、a2、a3分别为高、中、低三种材料膜层厚度系数，A为空气层；膜系结构为G0.56H1.72M0.54L2.30H0.60M0.39L1.33HA或G0.99H0.22M0.15L3.73H0.32M0.32L3.50HA；所述的长波红外窗口基底为Ge或ZnSe；所述的高折射率材料为Ge或PbTe；所述的中折射率材料为ZnS或ZnSe；所述的低折射率材料为YF3、YbF3或SrF2。
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