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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利基于渐变啁啾结构的超宽带低吸收低应力高反射薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119689622B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510050442.5，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权基于渐变啁啾结构的超宽带低吸收低应力高反射薄膜是由刘博通;王胭脂;邵建达;陈宇;陆叶盛;朱晔新;冯宇康;柳畅;朱峰;赵明雪;贾琳;易葵设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于渐变啁啾结构的超宽带低吸收低应力高反射薄膜在说明书摘要公布了：本发明提出了一种基于渐变啁啾结构实现超宽带低吸收低应力高反射薄膜，属于光学薄膜技术领域。本发明区别于使用传统规整膜系的高低折射率材料相互组合叠加的方式控制反射带宽提出了一种对数函数渐变啁啾结构，通过调节膜层总层数调节反射率指标，调节首尾光学厚度系数来调节反射带宽，有效避免设计宽带高反射介质膜时多个反射带叠加反射间隙区域出现的反射率突然下降问题，并且通过调节应力调控层和渐变主反射层的膜厚比来降低薄膜应力导致面型畸变问题。本发明从膜系设计角度减少了膜层厚度降低制备周期与难度，降低了应力带来的问题和风险，有效减少膜层吸收，可以结合后处理手段将吸收与应力控制在合适范围内有效支撑系统安全稳定运行。

本发明授权基于渐变啁啾结构的超宽带低吸收低应力高反射薄膜在权利要求书中公布了：1.一种基于渐变啁啾结构的超宽带低吸收低应力高反射薄膜，其特征在于，包含主反射膜层、基底、应力调控膜层，所述薄膜结构表达式为：AIRy1Hy2L…yn-1HynLSUByn+1Hyn+2L…yk-1HykLAIR,其中SUB表示基底，AIR表示空气，H和L分别代表光学厚度为λ4的高、低折射率材料，n为主反射镀膜层数，k为基底前后膜层总数，k-n为需要应力调控膜层数，y1至yk为光学厚度调控系数，主反射膜层和应力调控膜层光学厚度整体按对数函数关系渐变，函数表达式为：其中x代表薄膜的第x层1≦x≦k，y代表该膜层下所对应的光学厚度调控系数，a、b为根据设计指标需求确定首尾两层光学厚度系数后代入上述函数表达式求解出的函数关系常数项，根据指标需求的反射率确定膜层总数，根据指标需求的反射带宽确定函数增长趋势，改变所述薄膜结构的主反射膜层、应力调控膜层的膜厚比进行应力调节。

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