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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119756795B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411852341.1，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法是由刘世杰;陈大鹏;张嘉怡;鲁棋;邵建达设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法在说明书摘要公布了：一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法，包括：干涉仪、计算机、供干涉仪放置的光学平台、五维调整架、标准平面镜、待测平面镜。通过旋转待测平面镜测量计算得到方位角的二阶偏导，通过平移待测平面镜测量计算得到径向的二阶偏导。待测光学元件的绝对面形可以通过高阶Zernike拟合计算出来。传统的三面绝对检测法需要三块平面镜，对透射平面镜的口径、楔角的大小和方向都有严格的要求；对于大口径平面绝对检测而言，反复更换参考平面是不实用的，本发明将绝对检测实验步骤简化到两个平面镜的两次旋转平移，与传统的三面互检相比简化了测量步骤且减少测量时间近两个小时。此外，本发明将波前误差扩展到二阶，可以减小环境噪声、干涉仪噪声的影响，使测量结果具有更强的稳定性。

本发明授权一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1.构建检查光路：包括干涉仪、计算机、供干涉仪放置的光学平台、供待测平面镜B放置的五维调整架、标准平面镜A；使用所述干涉仪将出射光分成两束，一束光经过标准平面镜A的后表面反射成为参考光束，另一束光经过标准平面镜A透射后，经待测平面镜B的前表面反射成为测量光束，所述参考光束和测量光束沿着原来的光路返回，最终交叠在一起形成明暗相间的干涉条纹； 计算机，与所述干涉仪相连，用于对所述干涉条纹进行解包处理，获得标准平面镜A和待测平面镜B的波前误差； 步骤2.测量过程： 步骤2.1保持标准平面镜A不动，通过五维调整架使待测平面镜B顺时针旋转Δθ后，进行干涉测量，记录测量值W2ρ,θ，其中，ρ和θ是用于表示测量得到的面形误差的极坐标形式，即ρ代表从极点到测量点的距离，θ表示该点与正x轴之间连线的夹角； 步骤2.2将待测平面镜B转回原位，再次进行干涉测量，记录测量值W1ρ,θ； 步骤2.3使待测平面镜B逆时针旋转Δθ后，进行干涉测量，记录测量值W3ρ,θ； 步骤2.4分离标准平面镜和待测平面镜的波前误差，得到待测平面镜在旋转方向的二阶偏导数波前误差Atρ,θ，公式如下： 式中，W1ρ,θ＝Wreferenceρ,θ+Wtestρ,θ，W2ρ,θ＝Wreferenceρ,θ+Wtestρ,θ+Δθ， W3ρ,θ＝Wreferenceρ,θ+Wtestρ,θ-Δθ；其中，Wreferenceρ,θ为标准平面镜A的面形误差，Wtestρ,θ为待测平面镜B的面形误差，Wtestρ,θ+Δθ为待测平面镜B顺时针旋转Δθ位置的面形误差，Wtestρ,θ-Δθ为B镜逆时针旋转Δθ位置的面形误差； 步骤2.5通过调整五维调整架，使待测平面镜B向右移动Δx后，进行干涉测量，记录测量值W4ρ,θ； 步骤2.6将待测平面镜B转回原位，再向左移动Δx后，进行干涉测量，记录测量值W5ρ,θ； 步骤2.7分离标准平面镜A和待测平面镜B的波前误差，得到待测平面镜B在径向的二阶偏导数波前误差Arx,y，公式如下： 式中，W4x,y＝Wreferencex,y+Wtestx+Δx,y，W5x,y＝Wreferencex,y+Wtestx-Δx,y；其中，Wtestx+Δx,y为B镜右移Δx位置的面形误差,Wtestx-Δx,y为B镜左移Δx位置的面形误差； 步骤2.8将波前误差用Zernike多项式展开，通过对Zernike多项式求导，得到旋转方向和径向方向的二阶偏导数波前误差对应的Zernike多项式系数； 步骤2.9将旋转方向的Zernike多项式系数与径向方向的Zernike多项式系数组合累加，拟合计算出待测平面镜B的光学元件表面面形误差。

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