上海玟昕科技有限公司葛学平获国家专利权
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龙图腾网获悉上海玟昕科技有限公司申请的专利一种正性光刻胶组合物及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119805865B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510067587.6，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权一种正性光刻胶组合物及其制备方法与应用是由葛学平;洪性宰;黄光锋设计研发完成，并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种正性光刻胶组合物及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种正性光刻胶组合物及其制备方法与应用，该正性光刻胶组合物包括丙烯酸系共聚物树脂、感光剂；所述丙烯酸系共聚物树脂包括第一结构单元、第二结构单元、第三结构单元。该正性光刻胶组合物兼具良好的抗老化性能、高折射率、高透过率、高附着力、高硬度性能。
本发明授权一种正性光刻胶组合物及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，包括丙烯酸系共聚物树脂、感光剂，所述丙烯酸系共聚物树脂包括第一结构单元、第二结构单元、第三结构单元；所述第一结构单元如式1所示： 式1， 其中，R选自氢原子、甲基中的任意一种，R、R各自独立地选自式1-1、式1-2所示基团中的任意一种，n为1-10中的任一整数， 式1-1、式1-2； 所述第二结构单元如式2所示： 式2， 其中，R选自氢原子、甲基中的任意一种，R选自式1-1、式1-2所示基团中的任意一种，R选自羧基、羟基中的任意一种，n为1-10中的任一整数， 式1-1、式1-2； 所述第三结构单元的结构如式3所示： 式3， 其中，R选自氢原子、甲基中的任意一种，R选自式1-1、式1-2所示基团中的任意一种，R5选自式3-1、式3-2、式3-3所示基团中的任意一种，n3为1-10中的任一整数， 式1-1、式1-2、 式3-1、式3-2、 式3-3。
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