中国科学院上海光学精密机械研究所韩昱行获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利用于中长波红外的浅槽深宽带全介质反射式光栅及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120335068B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510628069.7，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权用于中长波红外的浅槽深宽带全介质反射式光栅及制备方法是由韩昱行;郑兴国;晋云霞;邵建达;郭猛;邱宇翔;曹红超;孔钒宇;邵宇川设计研发完成，并于2025-05-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于中长波红外的浅槽深宽带全介质反射式光栅及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种中长波红外浅槽深宽带全介质反射式光栅及其制备方法，属于红外光学器件技术领域。所述光栅由底部光栅膜和顶部浅槽深衍射光栅组成，底部光栅膜和顶部浅槽深衍射光栅协同调制布洛赫模式反射相位，在3‑14μm波段范围内实现‑1级衍射效率高于99％。制备方法包括：在基底上依次沉积功能膜层，图案化刻蚀形成浅槽深光栅结构。本发明采用全介质浅槽深光栅的设计，规避了中长波红外衍射光栅的制备难点，具有宽角谱、超宽带、高衍射效率和高损伤阈值的性能表现。本发明提供了中长波衍射光栅制备条件受限的解决方案，加速了衍射光栅在中长波红外的应用，促进了中长波红外的高能激光光谱合束系统、超强超短激光脉冲压缩以及光谱仪系统的发展。
本发明授权用于中长波红外的浅槽深宽带全介质反射式光栅及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于中长波红外的浅槽深宽带全介质反射式光栅，其特征在于，由底部光栅膜1和顶层浅槽深衍射光栅2组成，所述底部光栅膜1和顶层浅槽深衍射光栅2共同调制光栅内传播的布洛赫模式反射相位，在3-14μm有效工作波段范围内实现-1级衍射效率高于99%； 所述顶层浅槽深衍射光栅2，采用低吸收，高折射率的介电材料，其光栅脊结构轮廓由单一振幅光栅轮廓函数描述，其中，和为实数且，和分别为光栅周期和槽深且14μm1.5μm，1μm50nm，光栅占空比为0.2-0.8，所述槽深与工作波长λ比值低于0.05； 所述底部光栅膜1由低膨胀、高热导、低吸收的多层介质结构组成，在0-89°入射角及3-14μm有效工作波段范围内反射率高于99%，其层状结构自下而上依次包括基底3、高反射膜堆4、相位匹配层5和刻蚀残余层6。
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