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龙图腾网获悉艾庞半导体科技(四川)有限公司申请的专利一种双面研磨抛光设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223455760U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521733693.5，技术领域涉及：B24B37/08；该实用新型一种双面研磨抛光设备是由周磊;段琳琳;丁媛;侯斌设计研发完成，并于2025-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双面研磨抛光设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种双面研磨抛光设备，属于半导体研磨设备技术领域。包括机架、下研磨盘、上研磨盘和若干治具盘，机架上设置有研磨座，第一支撑架上升降设置有安装架，下研磨盘、上研磨盘分别设置在研磨座和安装架上，上研磨盘通过研磨座内的转盘水平转动设置。在研磨座的一侧设置支撑盘，支撑盘上设有传送带组件。操作人员可以在传送带组件处放置治具盘以及待打磨工件，放置完成后，再通过传送带组件动作和下研磨盘转动，从而将各个治具盘依次沿圆周方向布置上研磨座，具有提高治具盘上放置待打磨工件便利性和效率的效果。

本实用新型一种双面研磨抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种双面研磨抛光设备，包括机架1、下研磨盘2、上研磨盘3和若干治具盘4，所述机架1上设置有研磨座12，所述下研磨盘2设置在研磨座12上，所述机架1上位于下研磨盘2的上方固定设置有第一支撑架11，所述第一支撑架11上竖直升降设置有安装架13，所述第一支撑架11上设置有用于驱使安装架13升降的第一驱动件91，所述上研磨盘3固定设置在安装架13的底部，所述下研磨盘2与上研磨盘3之间形成研磨腔，其特征在于：所述机架1上转动设置有转动轴5，所述转动轴5同轴穿过下研磨盘2，所述机架1内设置有用于驱使转动轴5转动的第二驱动件92，所述转动轴5的外壁上位于下研磨盘2的上方设置有用于与治具盘4边缘啮合的内齿圈51，所述安装架13底壁位于上研磨盘3的外侧设置有用于与治具盘4边缘啮合的外齿圈131； 所述机架1上位于研磨座12的一侧设置有用于放置治具盘4的支撑台6，所述支撑台6上设置有用于沿研磨座12径向输送治具盘4的传送带组件61，所述研磨座12内阻尼转动设置有转盘18，所述下研磨盘2与转盘18可拆卸连接，所述转盘18的底部同轴竖直滑动设置有离合套19，所述机架1内设置有用于驱使离合套19竖直升降以使离合套19与转动轴5脱离连接的第三驱动件93。

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