京东方科技集团股份有限公司杨静获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利电子标签及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116434650B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310181847.3，技术领域涉及：G09F3/20；该发明授权电子标签及其制作方法是由杨静;王晶设计研发完成，并于2023-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本电子标签及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明提出了电子标签及其制作方法。电子标签包括：基底；感应线圈，感应线圈位于基底的一侧；平坦层，平坦层位于感应线圈远离基底的一侧；阳极，阳极位于感应线圈远离基底的一侧，阳极与感应线圈的第一端接触连接；像素限定层，像素限定层覆盖阳极远离基底的部分表面，且像素限定层限定出开口；发光层，发光层位于开口中；阴极，阴极位于像素限定层远离基底的一侧，阴极与感应线圈的第二端接触连接；其中，阳极在基底上的正投影与平坦层在基底上的正投影没有重叠区域；或者，阳极覆盖平坦层远离基底的部分表面，阳极具有多个镂空区域，像素限定层填充镂空区域。该电子标签具有较好的显示效果，可以至少在一定程度上避免像素收缩和或黑点不良。
本发明授权电子标签及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种电子标签，其特征在于，包括： 基底； 感应线圈，所述感应线圈位于所述基底的一侧； 平坦层，所述平坦层位于所述感应线圈远离所述基底的一侧； 阳极，所述阳极位于所述感应线圈远离所述基底的一侧，所述阳极与所述感应线圈的第一端接触连接； 像素限定层，所述像素限定层覆盖所述阳极远离所述基底的部分表面，且所述像素限定层限定出开口； 发光层，所述发光层位于所述开口中； 阴极，所述阴极位于所述像素限定层远离所述基底的一侧，所述阴极通过第二通孔与所述感应线圈的第二端接触连接； 其中，所述阳极在所述基底上的正投影与所述平坦层在所述基底上的正投影没有重叠区域。
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