吉林大学文懋获国家专利权
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龙图腾网获悉吉林大学申请的专利一种高硬高韧类岩石结构陶瓷-金属纳米多层薄膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117026156B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311006287.4，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种高硬高韧类岩石结构陶瓷-金属纳米多层薄膜及其制备方法与应用是由文懋;郝俊;王龙鹏;庞昊鹏;张侃;郑伟涛设计研发完成，并于2023-08-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高硬高韧类岩石结构陶瓷-金属纳米多层薄膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明属于功能薄膜材料技术领域，本发明公开了一种高硬高韧类岩石结构陶瓷‑金属纳米多层薄膜及其制备方法与应用。本发明所述高硬高韧类岩石结构陶瓷‑金属纳米多层薄膜的制备方法，包括如下步骤：将陶瓷层和金属层交替沉积于衬底上，得到陶瓷‑金属纳米多层薄膜。本发明利用磁控溅射沉积技术，在高温条件下交替沉积陶瓷层和金属层，在陶瓷‑金属纳米多层膜中获得了具有弯曲界面的类岩石结构。本发明所述高硬高韧类岩石结构陶瓷‑金属纳米多层薄膜具有优异的断裂韧性，可以满足更高质量压气机叶片防护涂层的应用。
本发明授权一种高硬高韧类岩石结构陶瓷-金属纳米多层薄膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种高硬高韧类岩石结构陶瓷-金属纳米多层薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 将陶瓷层和金属层交替沉积于衬底上，得到陶瓷-金属纳米多层薄膜；所述陶瓷层为TaC；所述金属层为TiNi合金；每层陶瓷层和每层金属层的厚度独立的为5~10nm；所述陶瓷-金属纳米多层薄膜的厚度为1~1.5μm; 所述沉积采用磁控溅射技术； 所述沉积的参数如下：溅射A靶为TaC；溅射A靶的沉积率为10~15nmmin；溅射A靶的电流为0.5~0.8A，溅射A靶的电压为270~470V；溅射B靶为TiNi合金，Ti和Ni的原子比为1：1； 溅射B靶的沉积率为8~10nmmin；溅射B靶的电流为0.1~0.2A，溅射B靶的电压为250~450V；真空度≤4×10-4Pa；压强为0.5~1.2Pa； 溅射气体为氩气，溅射气体的流量为50~80sccm，衬底和溅射靶材的距离独立的为8~10cm；衬底的温度为700~800℃。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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