镇江晶鼎光电科技有限公司周东平获国家专利权
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龙图腾网获悉镇江晶鼎光电科技有限公司申请的专利一种异型金属薄膜光刻工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117512509B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311470893.1，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种异型金属薄膜光刻工艺是由周东平;张鑫设计研发完成，并于2023-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种异型金属薄膜光刻工艺在说明书摘要公布了：一种异型金属薄膜光刻工艺，陶瓷基板的光刻表面为坡面，曝光显影的光刻版为菲林软板，金属薄膜为溅射钛铂金，所述的光刻工艺包括喷胶、检测胶面、曝光显影、溅射和后处理，在异形体上进行的金属化光刻工艺，采用优化后的光刻技术；其中光刻版代替硬板使用菲林软板，代替匀胶工艺使用喷胶工艺，使得产品连接处及坡面镀层区域结合力及均匀性更好。
本发明授权一种异型金属薄膜光刻工艺在权利要求书中公布了：1.一种异型金属薄膜光刻工艺，陶瓷基板的光刻表面为坡面，曝光显影的光刻版为菲林软板，金属薄膜为溅射钛铂金，其特征在于，所述的光刻工艺包括喷胶、检测胶面、曝光显影、溅射和后处理，具体工艺步骤如下； a、将陶瓷基板光刻表面朝上的放置到加热工作台上进行加热； b、在陶瓷基板的光刻表面喷胶式的喷涂光刻胶液； c、加热后的陶瓷基板使得光刻胶液在表面后加速挥发溶剂； d、将陶瓷基板旋转并再次喷涂，前后喷涂四次后； e、检测喷涂后的胶面； f、使用掩膜版接触式的对光刻表面进行掩膜对准式曝光显影； g、使用溅射钛铂金，对光刻后进行溅射工艺； h、对溅射后的陶瓷基板进行弱碱和激光扫射，完成后处理； 所述的掩膜版的图形和光刻胶的图形相同，掩膜版的底面抽气贴合式的与陶瓷基板贴合，所述的曝光显影的光源为紫外光，所述的紫外光为i线的365nm式。
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