华海清科股份有限公司路新春获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利修整器的控制方法、修整器的控制装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118905945B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411141489.4，技术领域涉及：B24B53/017；该发明授权修整器的控制方法、修整器的控制装置、电子设备及存储介质是由路新春;慈慧设计研发完成，并于2024-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本修整器的控制方法、修整器的控制装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种修整器的控制方法、修整器的控制装置、电子设备及存储介质，修整器用于修整晶圆抛光使用的抛光垫，该方法包括：确定抛光垫上抛光垫区域对晶圆上晶圆区域的抛光影响值，其中，抛光影响值用于指示抛光垫区域对晶圆区域的抛光作用强度；根据抛光影响值，确定修整器针对抛光垫区域的目标调整比重，其中，修整器针对抛光垫区域的调整比重，用于指示修整器修整抛光垫区域的耗时与修整器修整抛光垫的总耗时的比值；根据目标调整比重，控制修整器在抛光垫区域的停留时间。通过本申请实施例提供的修整器的控制方法能够使修整后的抛光垫对晶圆抛光时的晶圆平坦化工艺符合要求，降低了成本。
本发明授权修整器的控制方法、修整器的控制装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种修整器的控制方法，修整器用于修整晶圆抛光使用的抛光垫，其特征在于，包括： 确定抛光垫上抛光垫区域对晶圆上晶圆区域的抛光影响值； 根据抛光影响值，确定修整器针对抛光垫区域的目标调整比重，其用于指示修整器修整抛光垫区域的耗时与修整抛光垫的总耗时的比值； 根据目标调整比重，控制修整器在抛光垫区域的停留时间； 其中，抛光影响值用于指示抛光垫区域对晶圆区域的抛光作用强度，通过以下步骤确定： 确定相交概率，其中，抛光垫区域和晶圆区域包括环形区域，相交概率用于指示抛光垫区域对应的参考圆形与晶圆区域对应的参考圆形相交的概率，参考圆形位于相对应环形区域内，且与相对应的环形区域同圆心； 获取修整器按照第一调整比重修整抛光垫区域后，晶圆区域内晶圆的第一抛光速率； 获取修整器按照第二调整比重修整抛光垫区域后，晶圆区域内晶圆的第二抛光速率，其中，第一调整比重与第二调整比重不同； 根据第一抛光速率、第二抛光速率和相交概率，确定抛光影响值。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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