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龙图腾网获悉苏州精材半导体科技有限公司;北京精材半导体科技有限公司申请的专利连续式化学气相沉积设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119265550B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411383174.0，技术领域涉及：C23C16/54；该发明授权连续式化学气相沉积设备和方法是由朴钟熏;崔海珍;金锡津设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本连续式化学气相沉积设备和方法在说明书摘要公布了：本公开涉及化学气相沉积技术领域，特别地涉及一种连续式化学气相沉积设备和沉积方法。设备包括：主体装置和设置在所述主体装置内的传输装置，所述主体装置具有通过所述传输装置依次连接的准备室、反应室和热处理室；气体支持装置，与所述主体装置连接，用于为所述主体装置提供气体环境；反应容器，能够被设置在主体装置内，并在所述传输装置的带动下，在所述准备室、所述反应室和所述热处理室之间切换位置，所述气体支持装置能够与位于所述准备室、所述反应室和所述热处理室中的任意一者中的所述反应容器构建连接，并为所述反应容器提供对应的气体环境。本公开的连续式化学气相沉积设备和沉积方法能够提供沉积产品的生产效率。

本发明授权连续式化学气相沉积设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种连续式化学气相沉积设备，其特征在于，包括： 主体装置1和设置在所述主体装置1内的传输装置2，所述主体装置1具有通过所述传输装置2依次连接的独立的准备室11、反应室12和热处理室13； 气体支持装置3，与所述主体装置1连接，用于为所述主体装置1提供气体环境； 反应容器4，能够被设置在主体装置1内，并在所述传输装置2的带动下，在所述准备室11、所述反应室12和所述热处理室13之间切换位置，所述气体支持装置3能够与位于所述准备室11、所述反应室12和所述热处理室13中的任意一者中的所述反应容器4构建连接，并为所述反应容器4提供对应的气体环境； 闸阀装置5，设置在所述主体装置1内，并位于所述反应室12的两侧，用于将所述反应室12与所述准备室11和所述热处理室13隔断； 所述反应容器4至少为两个； 一个所述反应容器4被设置于所述反应室12内，进行化学气相沉积，另一个所述反应容器4被设置于所述准备室11内； 所述反应容器4上设置有气体接口42；所述气体支持装置3设置于所述主体装置1旁，并包括： 气体管道和与所述气体管道连接的对接机构； 所述对接机构用于带动所述气体管道靠近或远离所述反应容器4，以使所述气体管道的头端与所述反应容器4的气体接口42连接或断开。

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